专利名称：一种晶片光刻机的干燥装置      申请号：2022109245013     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：半导体光刻机 硅晶片光刻系统 半导体设备 硅晶片   相似专利 发布日：2025/03/03  
摘要： 本发明涉及一种晶片光刻机的干燥装置,包括：光刻机，光刻机上设有过滤筒，过滤筒内安装有对空气进行过滤的过滤组件，过滤筒的底部开设有圆孔，光刻机上固定安装有延伸至圆孔内的蓄水组件，通过蓄水组件对过滤组件产生的水进行储存，且过滤筒的一端开设有呈圆周分布的圆孔，过滤筒的另一端固定安装有抽气筒。本发明设计新颖，设置的空气进入过滤筒内，通过安装的吸附海绵对潮湿的空气进行第一步过滤，吸附海绵将空气中的大量水份吸取走，再通过安装的活性炭层对空气进行第二次过滤，出气管将热空气吹入烘干管内，进入烘干管内的热空气对光刻机进行烘干，通过过滤筒内的过滤组件大大降低了空气中的湿度，使得干燥装置的干燥效果得到了提升。

专利名称：一种光刻机的晶片输送装置      申请号：2022108597072     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：半导体光刻机 硅晶片光刻系统 半导体设备 硅晶片   相似专利 发布日：2025/03/03  
摘要： 本发明提供一种光刻机的晶片输送装置，属于半导体材料技术领域，该光刻机的晶片输送装置包括晶片外箱和送料装置，送料装置位于晶片外箱的一侧，晶片外箱的一侧端固定连接有放料斜板，送料装置上设置有送料盘，且送料盘与放料斜板相对应；本发明中，工作人员只需将多个晶片放入多个晶片分隔条上，驱动组件通过升降组件控制升降内箱升降，升降内箱每次向上移动的距离相同，使最上层的晶片被推料组件和滚动组件控制移动，从而使晶片进入送料盘内通过送料装置输送，根据光刻机对晶片的光刻时间，升降内箱每次只将一个晶片送出，送出的时间相同，不需要人为干涉，从而避免晶片在输送的过程中发生堆积影响光刻机的取用。

专利名称：一种用于光刻机的晶片吸盘结构      申请号：2022108081139     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：半导体光刻机 硅晶片光刻系统 半导体设备 硅晶片   相似专利 发布日：2024/11/01  
摘要： 本发明涉及光刻机技术领域，具体是涉及一种用于光刻机的晶片吸盘结构，包括机架、支撑盘、驱动机构和若干个夹持组件，支撑盘的顶部设置有若干个吸附孔，支撑盘的底部设置有第一通孔，机架上设置有若干个第一滑槽，驱动机构位于机架的底部，驱动机构包括驱动腔、推板、活动架和电磁阀，本申请通过电磁阀的设置切换支撑盘和驱动腔，使得气密性更好，从而使得支撑盘对晶片的固定更加稳定，同时通过先连通驱动腔后连通支撑盘的方式，使得支撑盘在对晶片固定的过程中，夹持组件可一直保持夹紧状态，使得晶片在吸附固定的过程中不会产生偏移，从而进一步提高固定晶片的稳定性，通过同一驱动源既可以对晶片进行位置调整还可对晶片固定，减少成本的投入。

专利名称：光刻系统和光刻方法      申请号：2018108757022     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：半导体光刻机 半导体光刻系统 半导体设备   相似专利 发布日：2025/03/03  
摘要： 本公开涉及一种光刻系统，包括光源、掩膜板、透镜和衬底台。光源被配置为提供光。掩膜板具有预定图案并被配置为基于预定图案遮挡光的至少一部分。透镜被配置为用经遮挡的光投影出预定图案的像。衬底台被配置为支撑衬底并使得预定图案的像被投影到衬底上的光刻胶中。预定图案至少包括第一图案和第二图案，第一图案和第二图案能够分别被透镜投影并且在被投影时具有不同的像距。衬底台被配置为在透镜的光轴方向上移动衬底，使得第一图案的像在光刻胶中的深度与第二图案的像在光刻胶中的深度之差小于第一图案与第二图案的像距之差。本公开还提供了一种光刻方法。

专利名称：一种光刻机用晶圆片涂胶系统      申请号：2019109987492     转让价格：面议  收藏
法律状态：已下证   类型：发明   关键词：半导体光刻机 半导体光刻系统 半导体设备   相似专利 发布日：2025/01/02  
摘要： 本发明公开了一种光刻机用晶圆片涂胶系统，其结构包括电机、支架、主转轴、调节杆、吸盘、水平调节装置、支撑圆盘，支架下方设有电机，电机与主转轴底部相连接，主转轴顶部贯穿支架并通过调节杆与吸盘相连接，支撑圆盘设在支架上方并与之相平行，支撑圆盘与主转轴垂直焊接在一起，吸盘底部设有水平调节装置，本发明的有益效果是：通过移动杆能够使液位传感器和内磁铁位于吸盘直径的两端，便于找到最低处，且通过磁吸作用能够移动伸缩杆位于最低处正下方，由于伸缩杆能够根据最低处进行移动，便于调节吸盘任意角度发生的倾斜，使用性更强，能够直接通过最低点与最高点确定一条直线直接进行调节，调节更加方便。