本发明公开了一种磁控溅射反应设备换样片装置，包括取样长杆，所述装置还包括圆筒、样片基座及设于取样长杆前部的长杆端部，所述长杆端部包括长杆端头、电磁铁、伸缩机构及微动开关，所述电磁铁、伸缩机构及微动开关设于圆筒内，所述电磁铁设于长杆端头的后方，所述电磁铁后方装设有伸缩机构，所述伸缩机构的尾端伸缩接触微动开关，所述样片基座包括设有凹陷口的尾端，所述长杆端头在尾端的凹陷口进出。本发明运用磁铁吸力实现取样，并使用弹簧和微动开关实现长杆自动脱出，在缩短搬运的时间，且要避免样片在搬运过程中受到损伤，以提高生产效率和成品率，并有利于提高整台设备的密封性，保证了工艺环境的洁净度。
📄 2019105317190
📂 C23C14_35
👤 浙江工业大学
📅 2019-06-19
一种制备高通量薄膜的磁控溅射装置，包括基体、基片台、圆筒、带齿圆环和掩模组件，所述带齿圆环安装在圆筒的上端处，所述掩模组件安装在圆筒的下端处，所述基体位于圆筒内且与带齿圆环可转动连接，基片台安装在基体的底部上，所述基体上设有第一真空电机，第一真空电机的电机轴上设有第一齿轮，所述第一齿轮与带齿圆环的齿形结构啮合，第一真空电机用于驱动基体相对于掩模组件旋转。本发明提供了一种制备高通量薄膜的磁控溅射装置及其制备高通量薄膜的制备方法，该装置结构简单，适用于小型的磁控溅射镀膜机上，一次抽气完成实验并且不需要进行额外的靶材更换操作，就可以按照不同靶材制备出组分呈连续渐变式梯度分布的三元高通量薄膜。
📄 2019113137062
📂 C23C14_35
👤 浙江工业大学
📅 2019-12-19
本发明公开了一种提升磁控溅射镀膜沉积速率装置，包括真空腔室、设置真空腔室顶部的密封盖、穿设在密封盖上的升降台及固定设置在升降台上的助吸装置，所述助吸装置包括吸环、连管及半圆形密封盘，所述吸环上均匀分布吸气孔，所述连管与吸环相连通，所述半圆型密封盘设置在连管端部位置，所述吸环表面相对位置处设有支撑块，所述支撑块上设有紧固螺钉，并通过紧固螺钉与升降台相连。本发明的有益效果是：该装置设计结构合理，使用方便，应用本装置为样品进行磁控溅射镀膜，使镀膜效率得到提高，对薄膜的制造领域具有重要的意义。
📄 2019110555907
📂 C23C14_35
👤 浙江工业大学
📅 2019-10-31
本发明公开了一种卷绕式纤维镀膜磁控溅射装置，包括纤维丝线、真空腔体、升降台及靶材支座，所述真空腔体内部在位于靶材支座一侧的位置设有卷绕式纤维镀膜装置，所述卷绕式纤维镀膜装置包括卷绕装置及丝架装置，所述卷绕装置对纤维丝线进行放卷，并通过丝架装置进行张开后再通过卷绕装置对纤维丝线进行收卷。本发明的有益效果是：该装置设计结构简单合理，使用方便，应用本装置为纤维进行磁控溅射镀膜，纤维丝线在滑轮之间绕动，使纤维丝线上圆柱表面与下圆柱表面都能镀到膜，保证了纤维镀膜的全面性与均匀性，对纤维镀膜的制造领域具有重要的意义。
📄 2019112365663
📂 C23C14_35
👤 浙江工业大学
📅 2019-12-05
本发明公开了一种磁控溅射反应设备钩挂式换样品装置，包括取样长杆，装置还包括设于取样长杆前部的圆筒状的长杆端头、样片基座，所述样片基座设有基座连接部，所述基座连接部设有侧杆，所述长杆端头前部开设有侧杆滑入槽，所述长杆端头后部安装有电磁铁，所述电磁铁设于长杆端头的后方，所述长杆端头内设有回复机构，所述回复机构连接有挂钩，所述挂钩后部设有吸合头，所述挂钩前部设有供侧杆钩挂的槽，所述挂钩绕回复机构转动时，吸合头靠近电磁铁。本发明在缩短搬运的时间，且要避免样片在搬运过程中受到损伤，以提高生产效率和成品率，本发明结构操作便捷，且能够通过鸭嘴槽进行水平方向上的小幅度调整，使其操作更为灵活。
📄 2019105322930
📂 C23C14_35
👤 浙江工业大学
📅 2019-06-19
一种利用磁控溅射法在铝合金表面制备TiN或CrN薄膜的方法。本发明涉及利用等离子体增强平衡磁控溅射装置，使用Ti、Cr金属靶，在铝合金表面分别制备含Ti和Cr原子过渡层的TiN和CrN薄膜。此方法不仅保证了铝合金基体的自身强度，同时也提高了铝合金表面的硬度及耐蚀性，并且薄膜与基体结合力良好，可以为铝合金表面改性工艺提供重要的参考依据。
📄 2016102940330
📂 C23C14_35
👤 辽宁科技大学
📅 2016-05-06
本发明提供了一种通过磁控溅射直流共溅射制备Ni‑Co‑Mn‑Ti合金薄膜的方法，其步骤为：(一)选取靶材：按化学计量比选取NiMnTi合金靶和Co单质靶；(二)共溅射：1.基底加热：将选好的合金靶和单质靶放在溅射室的溅射靶之上固定好，关闭腔盖抽真空到10‑4Pa以下后加热基底，打开基底加热电源，调整加热旋钮到合适位置开始加热；2.溅射室压强调整：充入纯度为99.999％的氩气，通过调整流量仪和闸板阀控制溅射室内压强到合适大小；3.直流共溅射：调整溅射靶的功率旋钮到合适范围开始共溅射，溅射一定时间后停止溅射。
📄 2016108715548
📂 C23C14_35
👤 江西理工大学
📅 2016-09-30
本发明公开了一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置，包括立杆和连接头，所述立杆的下方固定有通气管，且通气管的下方安装有防护罩，所述防护罩的内表面安装有出气盘，所述滑座的上方安装有支撑杆，所述连接头的下方与支撑杆的上端相互连接，且连接头的外侧通过承重架与承托盘相互连接，所述立杆的上端从下往上依次从连接头、承托盘和调控盒的表面贯穿，所述立杆的下端通过通气管与出气盘为贯通连接。该磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置，在拾取基片时，拉杆带动活塞进行上下移动，起到了对基片进行散热的作用，并且当活塞向上移动时，防护罩内部的一瞬间的气体小于外界的气压，从而便于将基片吸出。
📄 2018114500097
📂 H01L21_677
👤 南昌三盛半导体有限公司
📅 2018-11-30
一种高频振荡脉冲磁控溅射方法，包括以下步骤，1)将等待镀膜的样品分别浸泡在丙酮和酒精溶液中超声波清洗，吹干，放置于真空腔内样品工件架上，抽真空，通入氩气；2)开启高频振荡脉冲型靶电源和脉冲负偏压基体电源对样品表面进行离子轰击清洗，离子清洗时间20～40min，3)通入反应性气体，真空腔内真空度达到0.4～1.2Pa，接通可调节电感将脉冲靶电压，薄膜沉积时间20～180min；4)薄膜沉积完成后，关闭高频振荡脉冲电源、脉冲负偏压基体电源、反应气体阀门和工件架旋转机构，待真空腔内温度降至室温后将镀膜样品取出；具有高离化率、制备薄膜组织致密、性能良好的特点。
📄 2019108119219
📂 C23C14_35
👤 西安理工大学
📅 2019-08-30
本发明公开了一种曲面磁控溅射阴极、闭合磁场涂层磁控溅射设备及其应用方法，该磁控溅射阴极包括曲面靶、水冷套、电极、绝缘套、屏蔽组件、磁靴、磁靴转动、支撑固定机构，绝缘套对阴极组件进行电位绝缘，屏蔽组件为放电过程中的悬浮电位组件，磁靴转动可实现磁靴的滑动，提高靶材的利用率，曲面靶靶材是由多组表面可复合非金属的金属基片瓦拼接并通过螺栓固定在由不锈钢管表面焊接水冷管的水冷套上，通过电极接通负电压进行磁控溅射辉光放电，受阴极形状限制，辉光放电中的电子发生汇聚产生空心阴极效应，即提高了溅射速率，又增强了粒子的离化率。本发明可在高真空下磁控溅射产生大束流高离化率的粒子，获得优质的涂层。
📄 201810160010X
📂 C23C14_35
👤 温州职业技术学院
📅 2018-02-26
本发明公开了一种带有磁控溅射类金刚石碳膜结构的金属型材与应用，包括以下步骤：（1）在中空金属板上表面制备凹槽；然后在凹槽上表面制备氮化钛层；然后在氮化钛层上表面制备类金刚石碳膜；（2）在实心金属板上表面制备埋孔；然后在埋孔内部填充泡沫前驱体；加热得到缓冲板；（3）制备凝胶体；（4）在缓冲板下表面复合凝胶体，热处理得到带有弹性体的缓冲板；然后在带有类金刚石碳膜的中空金属板下表面安装带有弹性体的缓冲板，得到带有磁控溅射类金刚石碳膜结构的金属型材。本发明的金属型材具有良好的力学性能以及优异的散热性，同时具有良好的隔音效果，具有广阔的工业应用前景。
📄 2018105153533
📂 B32B15_01
👤 常熟市琴川钢丝制品有限责任公司
📅 2016-11-16
本实用新型属于磁控溅射电源技术领域，尤其为一种全数字式高功率单极脉冲磁控溅射电源，针对在现有技术中的磁控溅射电源在工作时，散热效果差，降低了磁控溅射电源的使用寿命的问题，现提出如下方案，其包括壳体，所述壳体的底部内壁上固定安装有磁控溅射电源本体，所述壳体的后侧固定安装有第一电机，所述第一电机的输出轴延伸至壳体内并固定安装有圆盘，所述圆盘的前侧固定焊接有连接轴，所述连接轴的外侧活动套设有矩形框架，所述矩形框架的底部固定安装有齿条。本实用新型结构设计合理，可以有效的对磁控溅射电源吹风散热，并且可以对磁控溅射电源本体工作时散发的热量排出，有效的提高了其散热效果。
📄 2021205791974
📂 H05K7_20
👤 四川省海创电气有限责任公司
📅 2021-03-22
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