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摘 要:本发明提供一种提高氧化物薄膜激光损伤阈值的热处理设备与方法。该设备包括:样品台,位于腔室的内部,设有石英玻璃衬底和氧化物光学薄膜,该薄膜经由真空热蒸发技术或磁控溅射进行镀膜处理制成;加热装置,位于样品台的上方以及两侧,用于对样品台进行加热;输入气路管,用于将高纯度氧气充入腔室;真空泵,用于对腔室进行抽真空处理,使真空度达到2.0×10‑4Pa;以及负偏压电路,电性耦接至样品台。相比于现有技术,本发明的负偏压电路将电压电位调至500V,施加的电场使充入的高纯度氧气进行辉光放电,形成的氧离子对薄膜表面进行轰击,从而使薄膜晶化并可减少氧化物光学薄膜的表面缺陷。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201510727119.3 | 专利名称: | 一种提高氧化物薄膜激光损伤阈值的热处理设备与方法 |
申请日: | 2015-10-30 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C23C14/58搜分类 塑料搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |