实用新型已授权

一种真空镀膜机基片架传送装置

📄 申请号：CN202022045470.3 📄 发布日：2026/05/18

著录项目信息

申请日

2020-09-17

公开号

CN213327821U

公开日

2021-06-01

申请人

山东沐东真空科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

C23C14_56

IPC 分类号

C23C14_56

技术画像

所属领域

真空镀膜设备真空镀膜设备自动化传送装置基片输送机构

应用场景

真空镀膜, 光学镀膜, 半导体制造, 表面处理, 镀膜生产线

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摘要

本实用新型公开了一种真空镀膜机基片架传送装置，包括底板，所述底板的顶部固定连接有液压气缸，所述液压气缸的一端固定连接有顶板，所述顶板的顶部固定连接有传动板，所述传动板的一端固定连接有伺服电机，所述伺服电机的输出端固定连接有丝杠，所述丝杠的表面螺纹连接有移动块，所述移动块的顶部固定连接有固定装置。本实用新型过液压气缸和伺服电机的设置，解决了基片进出是在不同真空室完成的问题，节约了成本，提高了工作效率；通过固定装置的设置，可以调节夹紧板的位置对不同大小的基片进夹紧固定，解决了以往装置不能对不同大小的基片进行固定的问题，使基片固定更加稳定，防止基片在传送过程中掉落。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20210601

✅ 授权

一种用于类金刚石镀膜设备的保养装置

当前第 / 件

一种用于磁控溅射镀膜设备的传送机台

同领域国内专利 · IPC: (C23C14_56)

C23C14_00 C23C14_02 C23C14_04 C23C14_06 C23C14_08 C23C14_14 C23C14_16 C23C14_18 C23C14_20 C23C14_22 C23C14_24 C23C14_26 C23C14_28 C23C14_30 C23C14_32 C23C14_34 C23C14_35 C23C14_46 C23C14_48 C23C14_50 C23C14_52 C23C14_54 C23C14_56 C23C14_58 覆盖24个领域

议价

不含过户费

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