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摘 要:基于标准CMOS工艺的双结深PN结光电二极管,由半导体硅P型衬底和N型阱构成的深结PN结光电二极管;由P型源漏注入和所述N型阱构成的浅结PN结光电二极管,所述半导体硅P型衬底为所述深结PN结光电二极管的阳极,所述N型阱为所述深结PN结光电二极管的阴极;所述P型源漏注入为所述浅结PN结光电二极管的阳极,所述N型阱为所述浅结PN结光电二极管的阴极;所述半导体硅P型衬底通过P型源漏注入形成重掺杂欧姆接触,并通过金属接触孔引出,所述N型阱通过N型源漏注入形成重掺杂欧姆接触,并通过金属接触孔引出。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201310118464.8 | 专利名称: | 用于荧光检测的双结深光电二极管 |
申请日: | 2013-04-07 | 申请/专利权人 | 浙江工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市下城区潮王路18号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L27/142搜分类 电子元器件 检测 电子设备和元器件搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2016/02/24 | 授权 | |
2013/08/21 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): H01L 27/142 专利申请号: 201310118464.8 申请日: 2013.04.07 |
2013/07/24 | 公开 |