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摘 要:本发明提供了一种基于Gate Last金属栅工艺的二维NAND型闪存,采用金属栅工艺实现NAND单元的控制栅,而不是传统的多晶硅环绕控制栅,可以实现与高介电常数金属栅先进CMOS工艺的集成,与目前主流的Gate Last CMOS工艺兼容,克服了目前NAND闪存工艺无法与先进标准逻辑工艺兼容的问题。同时提出了如何在高介电常数金属栅先进CMOS工艺中实现高压DMOS器件的方法,以实现NAND闪存的擦写操作。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201410550486.6 | 专利名称: | 一种NAND闪存及制备方法 |
申请日: | 2014-10-16 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L27/115搜分类 内存搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |