发明专利 已授权

一种基于局部密度信息的软件缺陷数据自适应过采样方法

📄 申请号:CN202111116252.7 📄 发布日:2026/09/11

著录项目信息

申请日
2021-09-23
公开号
CN113936185B
公开日
2024-12-24
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

软件缺陷预测, 软件质量保障, 软件测试, 不平衡数据分类, 机器学习建模

摘要

本发明公开了一种基于局部密度信息的软件缺陷数据自适应过采样方法,本发明首先在数据预处理阶段使用Min‑Max归一化方法统一量纲,使用提出的AgglomerativeClustering‑Relief特征选择方法,降低数据维度并删除冗余特征。然后在自适应分组采样阶段,通过分析在低维状态下的少数类实例的局部密度信息,将所有少数类实例根据各自的分布特点划分至不同的分组,并针对不同分组中的少数类实例,采用针对性的过采样策略进行自适应过采样。最终使数据集中两类样本数量达到平衡,从数据层面解决不平衡问题。

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这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN113936185B

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

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