发明专利已授权

一种安培力作用下的可控深度激光减材制造方法

📄 申请号：CN201711245972.7 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2017-12-01

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B23K26_364

IPC 分类号

B23K26_364 , B23K26_60 , B23K26_70 , B23K26_142 , B23K26_062 , B23K26_082 ,

技术画像

所属领域

激光加工激光加工减材制造电磁场辅助制造

应用场景

精密加工, 工业制造, 航空航天制造, 模具制造, 复杂零件加工

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摘要

一种安培力作用下的可控深度激光减材制造方法，包括以下步骤：(1)对待减材工件进行预处理；(2)将两个电极分别设置在待开槽区域的两端，将磁铁的两个磁极分别设置在待开槽区域的两侧；(3)在两个电极之间通入直流电流；两个磁极在待开槽区域形成磁场，控制电流方向和磁场方向，以确保电场和磁场产生的安培力的方向与待减材工件的重力方向相反；(4)开启激光器，同时从待开槽区域沿x轴方向的两侧自上而下向开槽区域倾斜喷射保护气，熔融的金属在安培力作用下脱离熔池，且在保护气的冲击作用下沿x轴方向的两侧排出，凹槽形成；(5)停止激光器、电场和磁场的作用，清理溢出的金属。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种基于信息互补的双流解码器的图像显著性检测方法

当前第 / 件

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同领域国内专利 · IPC: (B23K26_364)

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