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发明专利
已授权
一种密堆积纳米金刚石薄膜及其制备方法
📄 申请号:CN202211549878.1
📄 发布日:2026/08/04
著录项目信息
申请日
2022-12-05
公开号
CN115852331B
公开日
2024-11-01
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C23C16_27
IPC 分类号
C23C16_27
,
C23C16_02
,
技术画像
所属领域
纳米材料
纳米材料
薄膜材料
化学气相沉积
应用场景
切削工具涂层, 耐磨部件, 电子器件散热, 光学窗口, 半导体器件
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摘要
本发明公开了一种密堆积纳米金刚石薄膜。该密堆积纳米金刚石薄膜是利用旋涂种晶工艺,通过热丝化学气相沉积系统制备,该方法有效地降低了薄膜晶界中非晶碳的含量,制备了具有密堆积结构的纳米金刚石薄膜。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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