发明专利 已授权

一种密堆积纳米金刚石薄膜及其制备方法

📄 申请号:CN202211549878.1 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2022-12-05
公开号
CN115852331B
公开日
2024-11-01
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

切削工具涂层, 耐磨部件, 电子器件散热, 光学窗口, 半导体器件

摘要

本发明公开了一种密堆积纳米金刚石薄膜。该密堆积纳米金刚石薄膜是利用旋涂种晶工艺,通过热丝化学气相沉积系统制备,该方法有效地降低了薄膜晶界中非晶碳的含量,制备了具有密堆积结构的纳米金刚石薄膜。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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