发明专利 已授权

一种光学元件表面微小缺陷二维轮廓的检测方法

📄 申请号:CN201910311988.6 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2019-04-18
公开号
CN110006924B
公开日
2021-06-29
申请人
西安工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

光学元件加工质量检测, 精密光学制造, 工业表面缺陷检测, 光学元件表面质量评估

摘要

本发明涉及光学表面缺陷检测技术领域,具体涉及一种光学元件表面微小缺陷二维轮廓的检测方法。以克服现有技术存在的结构复杂、测量精度低、数据量大和测量时间长的问题。本发明采用的步骤为:1)激光束经过光束整形系统形成会聚光,会聚光经过样品反射后到达CCD靶面,调整样品位置、姿态,使会聚点位于靶面中心且垂直于CCD靶面,反射点到靶面中心的距离为L;2)光束照在样品表面缺陷区域,CCD上得到散射分布图;3)对散射分布图求出中心位置,以中心位置为基准点,沿不同方向取值可以得到一维的光强分布曲线I(w);4)重复步骤三的过程,对于散射图在不同的方向上取值,可以获得缺陷在不同取样方向上的宽度值,由此拟合出缺陷的二维轮廓。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
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