发明专利已授权

一种ALD镀膜设备

📄 申请号：CN202110001842.9 📄 发布日：2026/06/15

著录项目信息

申请日

2021-01-04

公开号

CN112853317B

公开日

2024-01-23

申请人

中国计量大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C23C16_455

IPC 分类号

C23C16_455 , C23C16_458 , C23C16_46 ,

技术画像

所属领域

原子层沉积原子层沉积薄膜沉积设备半导体制造设备

应用场景

半导体制造, 集成电路, 先进封装, 光伏电池, MEMS器件

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摘要

本发明公开了一种ALD镀膜设备，包括进料装置、镀膜装置，所述进料装置包括升降液压缸、密封圆板，电机安装槽，电机，转轴，载料台，样品槽，弹簧，屏蔽罩，弹簧固定板，所述镀膜装置包括外腔体，内腔体，前躯体存储器，导管，匀气圆板，进气法兰，出气法兰，所述升降液压缸安装在外腔体底面，密封圆板固定在升降液压缸的活塞杆上，电机安装槽与密封圆板固定连接，电机固定在电机安装槽内部，电机转子通过联轴器与转轴相连，载料台固定在转轴上，所述前躯体存储器固定在外腔体侧面，进气法兰和出气法兰均安装在外腔体侧面，与外腔体和内腔体侧面的通孔相连。将待镀样品固定在样品槽内部，通过电机旋转依次对样品进行如下循环操作：通入前躯体A,吹扫氮气，通入前躯体B,吹扫氮气，整个镀膜过程高效有序。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：50 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

资金托管权属尽调包过户

🏢 淄博智来知识产权服务有限公司

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📊 出价记录 (3条)

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