发明专利已授权

一种利用铜膜图形化制作纳米金刚石膜的方法

Name: 一种利用铜膜图形化制作纳米金刚石膜的方法
Brand: 武汉工程大学
SKU: 2017106399697
Availability: InStock

📄 申请号：CN201710639969.7 📄 发布日：2026/09/28

著录项目信息

申请日

2017-07-31

公开号

CN107400876B

公开日

2019-10-22

申请人

武汉工程大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C23C16_27

IPC 分类号

C23C16_27 , C23C16_04 ,

技术画像

所属领域

其他分类其他

应用场景

电子器件, 光学涂层, 耐磨涂层, 散热材料, 半导体制造

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摘要

本发明公开了一种利用铜膜图形化制作纳米金刚石膜的方法，包含如下步骤：首先，先后用无水乙醇和去离子水对硅衬底进行超声波清洗，然后用纳米金刚石微粉的乙醇悬浊液对硅衬底进行超声波预处理，干燥；将与纳米金刚石膜的形状、大小一致的模板放置在硅衬底表面；在未被模板覆盖的硅衬底区域镀铜膜；移除模板；放入真空腔体内，通入工作气体，利用等离子体化学气相沉积的方法，低温下在未覆盖铜膜的位置沉积纳米金刚石膜；真空冷却，去真空，利用浓硝酸和氢氟酸的混合溶液腐蚀铜膜和硅衬底得到图形化了的纳米金刚石膜。本发明可以简单、易操作的制备出表面平整光滑，机械强度高的图形化纳米金刚石膜。

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20191022

✅ 授权

20171222

?? 实质审查的生效：

20171128

📄 公开

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