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摘 要:一种高稳定性氧化物半导体薄膜晶体管,包括衬底、栅电极、绝缘层、有源层和源漏电极,所述绝缘层为掺杂硼或硅的绝缘膜,所述有源层为掺杂硼或硅的半导体薄膜,一种高稳定性氧化物半导体薄膜晶体管的制备方法,包括选择重掺杂硅衬底或ITO导电玻璃为衬底,同时作为栅电极;采用磁控溅射法在衬底上制备绝缘层,所述绝缘层为掺杂硼或硅的绝缘膜;采用磁控溅射在绝缘层上制备有源层,所述有源层为掺杂硼或硅的半导体薄膜;采用热蒸发镀膜法在有源层上制备金属Al薄膜作为源漏电极。本发明采用掺杂易与氧空位结合的硼(B)或硅(Si),减少绝缘层和有源层界面处的氧空位,提高薄膜晶体管的稳定性,从而提高器件的稳定性和可靠性。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201710988060.2 | 专利名称: | 一种高稳定性氧化物半导体薄膜晶体管及其制备方法 |
申请日: | 2017-10-21 | 申请/专利权人 | 河南大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 河南省开封市顺河区明伦街85号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L29/06搜分类 半导体 塑料 高稳定性搜索 |
公开/公告日: | 2020-04-03 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN107706231B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |