法律状态: 全部 已授权 审中
项目申报: 全部 报过 没有报过
9 件在售专利
本实用新型涉及光刻机定位技术领域,具体为一种光刻机长光路辅助定位装置,包括底座,所述底座位于整个装置的底端,所述底座上安装有升降组件,所述升降组件上安装有可对晶圆进行夹紧的一体式夹紧台,所述夹紧台中间开设的槽处放置有晶圆,且晶圆底端安装可均匀加热的红外线加热器。本装置设置的定位装置底端安装有升降组件,可通过气缸驱动气杆来调节升降组件的高度调节,方便于对根据使用需要对夹紧台上的晶圆实现不同高度的调控,设置的夹紧台上安装的晶圆通过夹紧组件实现夹紧,通过电机的正反实现连接块上夹块的收缩和展开,便于对晶圆实现稳定的夹紧,配合夹紧组件上安装的红外线加热器实现对晶圆的均匀加热,提高了装置的实用性。
📄 2025219945815 📂 G03F7_20 👤 深圳市鑫润达电子有限公司 📅 2025-09-17
¥0.0
一种光刻机物镜结构
发明 已授权
本发明涉及光刻机物镜技术领域,尤其为一种光刻机物镜结构,包括物镜主体、水冷装置和散热装置,所述物镜主体外侧与水冷装置固定连接,所述水冷装置远离物镜主体的一侧与散热装置固定连接,所述物镜主体包括外壳、镜片主体和定位装置,所述外壳的个数共有四个,且四个所述外壳在镜片主体外侧呈均匀分布,所述镜片主体外侧设置在外壳一侧,本发明中,通过设置的外壳、镜片主体、固定盖、定位装置、夹持块、推板、螺丝、连接板、定位环、螺栓和定位主体,可以方便的对镜片主体和水冷装置进行组装,同时在夹持板对外壳进行夹持时,在第一弹簧的作用下,使限位板可以对两个外壳进行夹持,使外壳安装更加稳定,方便对镜片主体进行安装和拆卸。
📄 202310719268X 📂 G03F7_20 👤 张家港奇点光电科技有限公司 📅 2023-06-16
¥0.0
本实用新型公开了一种IC引线框架光刻机双光源控制机构,包括机体、上平行光源反射镜、下平行光源反射镜,所述机体上部通过隔板分隔有操控区,所述机体下部通过隔板分隔有扫描区,所述上平行光源反射镜设于机体上且位于操控区左侧,所述上平行光源反射镜底部设有上平行光源且位于上平行光源反射镜和上平行光源之间设有上扫描光源,所述下平行光源反射镜设于扫描区内且下平行光源反射镜顶部设有下平行光源且下平行光源顶部设有下扫描光源,所述机体上设有上扫描轨道,所述上扫描光源顶部滑动连接于上扫描轨道上,通过操作面板根据芯片基片保护层上的不同材料,控制保护层所需要的光源,对光源进行独立控制。
📄 202322046214X 📂 G03F7_20 👤 昆山建高远自动化科技有限公司 📅 2023-08-01
¥0.0
本发明公开了一种整片晶圆纳米压印光刻机,它包括压印头、曝光系统、模板、承片台、脱模喷嘴、机架、大理石底座、真空管路和压力管路,其中,模板固定于压印头上,承片台置于模板的垂直正下方,并固定在大理石底座上,承片台周边设有脱模喷嘴;曝光系统的紫外光源置于压印头内;真空管路和压力管路均与压印头相连;真空管路还与承片台相连。本发明还公开了使用该设备实现整片晶圆纳米压印的方法。本发明的整片晶圆纳米压印光刻机,具有结构简单、适应性广、操作方便、制造成本低和可靠性高等优点,可应用于LED图形化、微透镜、微流体器件的制造,尤其适合光子晶体LED的低成本和规模化制造。
📄 2011102662510 📂 G03F7_00 👤 青岛理工大学 📅 2011-09-08
¥0.0
一种光刻机的可调支脚座
实用新型 已授权
本实用新型属于支脚座技术领域,尤其为一种光刻机的可调支脚座,包括支脚座本体,所述支脚座本体外表面等距开设有安装槽,所述支脚座本体外表面中部套接安装有固定套管,所述固定套管底端等距焊接有连接卡板,所述连接卡板内部铰接安装有支撑杆,所述安装槽底部铰接安装有支撑底板,所述支撑底板顶端一侧开设有转动槽,所述固定套管内壁一侧中部开设有限位螺孔。通过使用安装槽,可以对支撑杆和支撑底板进行收纳,通过使用固定套管,可以对支撑杆和支撑底板的位置进行调节,通过使用限位螺杆,可以对固定套管进行固定,通过使用支撑底板,可以增大支脚座本体的支撑面积,可以使支脚座本体安装的更加稳定,便于支脚座本体的使用。
📄 2021224908983 📂 F16M7_00 👤 江苏瑞鑫集成电路设备有限公司 📅 2021-10-16
已申报项目
¥0.0
本发明涉及光刻技术领域,具体来说是一种使光刻线条变窄的方法及光刻机,进行至少两次曝光,以在所述的至少两次曝光的重叠部分形成所需的光刻部。本发明同现有技术相比,组合结构简单可行,其优点在于:原创性地设计了使光刻线条变窄的方法,通过至少两次的先后曝光,在曝光的重叠部分形成所需的光刻部,其能够克服现有技术的不足满足纳米级的曝光需求,且有助于降低光刻工艺的成本;还设计了实现掩膜版位移的具体方法和设备结构,实现了纳米级和亚纳米级的掩膜版位移。
📄 2021102538803 📂 G03F7_20 👤 上海大溥实业有限公司 📅 2021-03-09
¥0.0
本发明提供一种光刻机的晶片传送装置,涉及半导体材料生产技术领域,包括:对接座;所述对接座与机械臂固定连接,对接座外部连接有支撑架,支撑架外部固定连接有中空圆座;所述中空圆座内部环绕安装有六个内转块,内转块外部连接有拉杆,拉杆位于中空圆座内部;所述中空圆座外部连接有六个负压吸盘,内转块与负压吸盘相连,负压吸盘与负压泵相连。能够根据晶圆片规格的不同,精准改变六个负压吸盘之间的间隔距离,更好地满足各类不同规格晶圆片在吸附传送过程中的多样化需求。解决了现有光刻机所配置的晶片传送装置设计阶段,依据单一规格的晶圆片进行定制化生产,其结构与尺寸严格适配特定规格晶圆片的固定传送需求,应用局限性较大的问题。
📄 2025110506395 📂 H01L21_677 👤 惠州君弘自动化设备有限公司 📅 2025-07-29
¥0.0
一种光刻机的涂胶装置
实用新型 已授权
本实用新型公开了一种光刻机的涂胶装置,包括基板、主轴、转台、轴承、电机、主动齿轮和从动齿轮,所述基板的边缘连接有竖直的立杆,立杆的顶端通过销轴铰接有第一压杆,第一压杆远离销轴的一端固定连接有桨片;立杆上还固定连接有挡板,挡板水平地设置在销轴的下方,挡板的一端朝向所述主轴的中轴线;第一压杆绕销轴转动以使第一压杆的中部搭接在挡板的右端,桨片朝向所述晶圆的一面各点至晶圆的距离相等。第一压杆的端部连接有桨片,由于桨片朝向所述晶圆的一面各点至晶圆的距离相等,在晶圆转动过程中,高度过高的光刻胶被桨片推平,多余的光刻胶粘附在桨片上,高度过低的光刻胶区域被填平。
📄 2022221695458 📂 B05C11_02 👤 苏州凯硕机电设备工程有限公司 📅 2022-08-17
¥0.0
本发明涉及芯片生产设备领域,具体的说是一种芯片生产用光刻机,包括底板、高度调节结构、工作台、检测结构、LED灯、积尘结构和真空泵;底板与用于放置芯片的工作台之间设有调节高度的高度调节结构;工作台的内部设有提供负压的真空泵;工作台上设有用于检测芯片的LED灯与用于放置芯片的检测结构;工作台的底端设有用于收纳灰尘的积尘结构。本发明的真空泵配合检测结构的使用实现了积尘结构的内部负压,便于将检测结构上的芯片上的灰尘废屑压进积尘结构的内部,便于快速的处理光刻后的灰尘,工作台上设置的LED灯配合检测结构的使用便于在处理灰尘的同时对光刻的芯片进行检测,节省了了加工工序的时间,大大提高了工作效率。
📄 2018107549554 📂 G03F7_20 👤 四川企服云技术转移有限公司 📅 2018-07-11
¥0.0
实用新型 已授权

一种光刻机长光路辅助定位装置

2025219945815 · 深圳市鑫润达电子有限公司
¥0.0
发明 已授权

一种光刻机物镜结构

202310719268X · 张家港奇点光电科技有限公司
¥0.0
实用新型 已授权

IC引线框架光刻机双光源控制机构

202322046214X · 昆山建高远自动化科技有限公司
¥0.0
发明 已授权

一种整片晶圆纳米压印光刻机

2011102662510 · 青岛理工大学
¥0.0
实用新型 已授权

一种光刻机的可调支脚座

2021224908983 · 江苏瑞鑫集成电路设备有限公司
已申报项目
¥0.0
发明 已授权

使光刻线条变窄的方法及光刻机

2021102538803 · 上海大溥实业有限公司
¥0.0
发明 已授权

一种光刻机的晶片传送装置

2025110506395 · 惠州君弘自动化设备有限公司
¥0.0
实用新型 已授权

一种光刻机的涂胶装置

2022221695458 · 苏州凯硕机电设备工程有限公司
¥0.0
发明 已授权

一种芯片生产用光刻机

2018107549554 · 四川企服云技术转移有限公司
¥0.0

求购专区 · 发布技术需求,卖家在线应标

🔋 高能量密度固态电解质材料与制备工艺
预算:¥50-100万截止:2026-08-30发布方:××新能源科技响应:8人

交易保障 · 安心交易

资金托管

买家付款至平台,交易完成/过户成功后放款给卖家

权属尽调

专利有效性分析 + 权属状态核查,确保交易安全

合同审核

标准转让/许可合同模板,支持在线电子签署

全程代办

著录项目变更、备案手续全程代办,省心省力

交易流程 · 六步完成专利交易

1
选专利
2
在线沟通
3
签署合同
4
支付款项
5
办理变更
6
过户完成

成功交易案例

🔬

固态锂电池电解质专利包

转让方:中国科学院××研究所
受让方:××新能源科技有限公司
交易类型:独占许可
交易金额:¥320万
🧬

CRISPR基因编辑技术

转让方:××大学
受让方:××生物医药有限公司
交易类型:转让
交易金额:¥1,200万

SiC功率器件工艺专利

转让方:××半导体有限公司
受让方:××汽车电子集团
交易类型:转让
交易金额:¥680万
☀️

钙钛矿光伏组件技术

转让方:××科技公司
受让方:××能源集团
交易类型:开放许可
交易金额:¥50万/年