发明专利已授权

一种整片晶圆纳米压印光刻机

📄 申请号：CN201110266251.0 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2011-09-08

公开号

CN102346369A

公开日

2012-02-08

申请人

青岛理工大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G03F7_00

IPC 分类号

G03F7_00 , G03F7_20 ,

技术画像

所属领域

纳米压印光刻纳米压印技术半导体制造设备微纳加工技术纳米压印光刻

应用场景

半导体芯片制造, 集成电路制程, 微纳器件加工, 晶圆级光学器件制造

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摘要

本发明公开了一种整片晶圆纳米压印光刻机，它包括压印头、曝光系统、模板、承片台、脱模喷嘴、机架、大理石底座、真空管路和压力管路，其中，模板固定于压印头上，承片台置于模板的垂直正下方，并固定在大理石底座上，承片台周边设有脱模喷嘴；曝光系统的紫外光源置于压印头内；真空管路和压力管路均与压印头相连；真空管路还与承片台相连。本发明还公开了使用该设备实现整片晶圆纳米压印的方法。本发明的整片晶圆纳米压印光刻机，具有结构简单、适应性广、操作方便、制造成本低和可靠性高等优点，可应用于LED图形化、微透镜、微流体器件的制造，尤其适合光子晶体LED的低成本和规模化制造。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种用于整片晶圆纳米压印自适应承片台

当前第 / 件

光辐射角度传感器的检测仪

同领域国内专利 · IPC: (G03F7_00)

G03F7_00 G03F7_004 G03F7_033 G03F7_09 G03F7_11 G03F7_16 G03F7_20 G03F7_30 G03F7_38 G03F7_40 G03F7_42 覆盖11个领域

议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：32 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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