实用新型已授权

IC引线框架光刻机双光源控制机构

📄 申请号：CN202322046214.X 📄 发布日：2026/08/10

著录项目信息

申请日

2023-08-01

公开号

CN220367521U

公开日

2024-01-19

申请人

昆山建高远自动化科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

G03F7_20

IPC 分类号

G03F7_20

技术画像

所属领域

半导体光刻设备半导体光刻设备光源控制引线框架制造

应用场景

集成电路封装, 引线框架制造, 半导体光刻, 微电子制造

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摘要

本实用新型公开了一种IC引线框架光刻机双光源控制机构，包括机体、上平行光源反射镜、下平行光源反射镜，所述机体上部通过隔板分隔有操控区，所述机体下部通过隔板分隔有扫描区，所述上平行光源反射镜设于机体上且位于操控区左侧，所述上平行光源反射镜底部设有上平行光源且位于上平行光源反射镜和上平行光源之间设有上扫描光源，所述下平行光源反射镜设于扫描区内且下平行光源反射镜顶部设有下平行光源且下平行光源顶部设有下扫描光源，所述机体上设有上扫描轨道，所述上扫描光源顶部滑动连接于上扫描轨道上，通过操作面板根据芯片基片保护层上的不同材料，控制保护层所需要的光源，对光源进行独立控制。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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