发明专利已授权

一种基于时域光谱技术的太赫兹双模式成像系统及方法

📄 申请号：CN202110521855.9 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2021-05-13

公开号

CN113267465B

公开日

2023-04-18

申请人

重庆邮电大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G01N21_3586

IPC 分类号

G01N21_3586 , G01N21_01 , G01J3_42 , G01J3_28 ,

技术画像

所属领域

太赫兹时域光谱太赫兹时域光谱太赫兹成像光学成像系统

应用场景

无损检测, 安全检查, 生物医学成像, 材料检测, 产品质量检测

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摘要

本发明公开一种基于时域光谱技术的太赫兹双模式成像系统及方法，飞秒激光发射端产生的脉冲激光分成泵浦激光和探测激光，泵浦激光经过延迟后聚焦照射在太赫兹发射端产生太赫兹波，探测激光分成远场成像探测激光和近场成像探测激光经，远场成像探测激光聚焦照射在可移动第二光导探测端，近场成像探测激光聚焦照射在可移动第一光导探测端；太赫兹波经准直聚焦后穿过样品照射在可移动第一光导探测端上；照射在可移动第一光导探测端上的太赫兹波可以通过切换通道准直聚焦后照射在可移动第二光导探测端上，本发明基于现有的太赫兹成像系统的改进，解决了太赫兹成像系统单模式成像、对样品信息探测得不全面和成像分辨率低的问题。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20230418

✅ 授权

20210903

?? 实质审查的生效：

20210817

📄 公开

一种基于超表面结构的太赫兹成像系统及方法

当前第 / 件

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