发明专利 已授权

一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩

📄 申请号:CN202010636922.7 📄 发布日:2026/07/20

著录项目信息

申请日
2020-07-04
申请人
刘永
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

半导体晶圆制造, 化学机械抛光, 集成电路制造, 晶圆平坦化

摘要

本发明公开了一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩,上支撑架的上端面低于研磨平台的上端面;上支撑架的底面上成型有同轴设置的圆环状的挡水环;上支撑架的内圆柱面上成型有内螺纹;旋转支撑座的外圆柱面上成型有与上支撑架的内螺纹配合的外螺纹;旋转支撑座的内圆柱面下端成型有同轴设置的圆环状的下支撑环;下支撑环上固定有防溅罩;防溅罩由上部的缩口部和下部的上窄下宽的漏斗状的下阻挡部组成;下阻挡部的上端开口的内径与缩口部的内径相同;缩口部的内径大于研磨平台的直径。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20210903
✅ 授权
20210817
⏳ 专利申请权的转移 :
20201124
?? 实质审查的生效 :
20201106
📄 公开
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:7 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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