发明专利已授权

一种间距可控的化学机械研磨头

📄 申请号：CN202010636856.3 📄 发布日：2026/07/20

著录项目信息

申请日

2020-07-04

申请人

林燕

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24B37_12

IPC 分类号

技术画像

所属领域

化学机械研磨设备化学机械研磨设备晶圆平坦化技术研磨头结构

应用场景

半导体制造, 集成电路制造, 晶圆平坦化, 先进封装, 微电子加工

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摘要

本发明公开了一种间距可控的化学机械研磨头，研磨支撑座的底部升降设置有圆环状的研磨保持环；研磨保持环与压头同轴设置并且压头位于研磨保持环内；研磨保持环的内径大于圆晶的直径；限位底环与研磨保持环同轴设置；限位底环位于研磨保持环的下侧并且两者之间的间隙可调设置；限位底环的内径大于研磨垫的直径；研磨平台的上端面上成型有同轴设置的供限位底环插入的限位环槽；限位环槽内设置有用于限制限位底环的限位装置；限位底环相对于研磨平台旋转设置。本发明工作时，研磨保持环和研磨垫之间的间隙保持在一定的间距，这样限位底环不会被研磨垫磨损同时有利于研磨液和研磨产物排出，提高研磨质量。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：21 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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