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摘 要:本发明公开了一种提纯硅的装置。所述装置首先将粗硅与可与硅形成过共晶或者过包晶的高纯金属熔化在内设温度定向控制管的坩埚中,利用温度定向控制管产生高的侧向和纵向温度梯度,结合行波磁场控制初生单质硅在过共晶合金系中的结晶过程,提高初生单质硅的生长界面稳定性,抑制助熔金属夹杂物的形成。首先制备的棒材为初生单质硅在中心,助熔金属在外侧的结构。然后,在顶部高温区实现硅的过饱和溶解,再借助行波磁场发生器的往复运动,实现中心初生单质硅棒的粗化长大。生长完毕且冷却后,切掉头部金属吸杂区域。获得的初生硅再次重复上述过程,实现高纯硅的制备。因此,本申请所述装置可以避免引用大量的金属夹杂物,且工艺简单,制备的硅纯度高。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201910994763.5 | 专利名称: | 提纯硅的装置 |
申请日: | 2019-10-18 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C30B29/06搜分类 半导体搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |