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著 录 项 目:
专利/申请号: | CN201510404012.5 | 专利名称: | 调控SiC纳米阵列密度的方法 |
申请日: | 2015-07-08 | 申请/专利权人 | 宁波工程学院 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省宁波市镇海区风华路201号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C30B29/36分类检索 半导体专利转让搜索 |
公开/公告日: | 2015-12-09 | 转让价格: | 16000.0元 【平台担保交易】 |
公开/公告号: | CN105133017A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
摘 要:本发明公开的调控SiC纳米阵列密度的方法,包括如下步骤,1)、前躯体准备;基体准备;2)、催化剂沉积:在准备好的基体表面沉积催化剂层;3)、将沉积有催化剂层的基体以及前躯体共同于烧结氛围中烧结,前躯体热解在基体表面形成SiC纳米阵列。本发明公开的制备方法工艺简单,生产方便,便于扩大规模,安全性好,产品质量稳定性好,产品性能稳定。
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |