发明专利已授权

预芬顿处理和磁场联合的均匀高效抛光方法

Name: 预芬顿处理和磁场联合的均匀高效抛光方法
Brand: 浙江工业大学
SKU: 2019106758792
Availability: InStock

📄 申请号：CN201910675879.2 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2019-07-25

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24B1_00

IPC 分类号

B24B1_00 , B24B41_00 , B24B55_02 ,

技术画像

所属领域

抛光工艺抛光工艺芬顿氧化磁场辅助加工

应用场景

精密抛光, 表面处理, 金属加工, 半导体晶圆抛光

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摘要

一种预芬顿处理和磁场联合的均匀高效抛光方法，所述均匀高效抛光通过低压磨粒流实现；所述低压磨粒流在楔形流道内抛光碳化硅工件，所述楔形流道的上顶面倾斜角度可调，通过置于加工装置内的角度调整机构实现；所述芬顿预处理是对碳化硅工件的表面预处理，在抛光前通过芬顿反应使碳化硅工件表面生成二氧化硅薄层，降低工件表面硬度；所述磁场为置于加工装置正下方的电磁铁所产生的垂直工件表面的强度可调均匀磁场，在所述磁场的作用下，流场中的磁性磨粒被磁化，受磁场力作用向工件表面运动；所述磁性磨粒为镀镍碳化硅磨粒。本发明使碳化硅工件抛光后表面粗糙度均匀、表面质量提高、加工效率提高的。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号：

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20201030

✅ 授权

20191115

?? 实质审查的生效：

20191022

📄 公开

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：60 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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🏢 淄博智来知识产权服务有限公司

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