本实用新型公开了一种不锈钢精密件生产用毛刺去除装置,包括底座,所述底座顶部中心位置通过螺栓设置有电动推杆,所述电动推杆顶部设置有支撑架,所述支撑架底部一侧连接有索链,所述索链底部设有漏兜,所述底座顶部位于电动推杆一侧对应漏兜位置通过螺栓设置有磁力抛光机,所述底座顶部位于电动推杆另一侧设置有视频显微镜。该装置具有升降定位结构以便于替代人力支撑精密件进行沥水操作,从而大幅度节省人力。
📄 2023207800731
📂 B24B1_00
👤 东台嘉杰精密机械有限公司
📅 2023-04-11
已申报项目
本发明公开一种基于空化和介电泳的多相流抛光方法及抛光系统,该方法为将待抛光平面工件放置在一个静止的过流腔体内,使磨粒流发生空化后进入过流腔体,并在过流腔体内施加非均匀电场将磨粒极化,导致其受力不均匀而向工件表面发生移动聚集,经空化作用的磨粒流在非均匀电场作用下对待抛光工件的平面进行抛光,达到均匀抛光的效果。本发明的抛光方法抛光的工件表面均匀、表面粗糙度低、表面质量高、加工效率高。
📄 2019104770465
📂 B24B1_00
👤 浙江工业大学
📅 2019-06-03
一种半球谐振子流道约束‑剪切流变抛光方法,包括以下步骤:(1)制备具有剪切流变效应的非牛顿流体抛光液,加入抛光液站;(2)将半球谐振子通过夹具转接到抛光机工件主轴上,调整半球谐振子回转轴线与工件主轴回转轴线同轴;(3)调整抛光头球面与半球谐振子球面同心,启动抛光液循环系统;(4)启动工件主轴,使抛光头相对半球谐振子做相对转动,抛光液在约束流道、抛光头‑谐振子表面间隙形成两个剪切流变流场,控制抛光液流速及工件主轴转速实现半球谐振子高效抛光。以及提供一种半球谐振子流道约束‑剪切流变抛光装置。本发明能够在保持半球谐振子磨削面形精度的前提下,高效去除磨削表面损伤层,实现高效、高质量抛光。
📄 2020108437657
📂 B24B1_00
👤 浙江工业大学
📅 2020-08-20
一种预芬顿处理和磁场联合的均匀高效抛光方法,所述均匀高效抛光通过低压磨粒流实现;所述低压磨粒流在楔形流道内抛光碳化硅工件,所述楔形流道的上顶面倾斜角度可调,通过置于加工装置内的角度调整机构实现;所述芬顿预处理是对碳化硅工件的表面预处理,在抛光前通过芬顿反应使碳化硅工件表面生成二氧化硅薄层,降低工件表面硬度;所述磁场为置于加工装置正下方的电磁铁所产生的垂直工件表面的强度可调均匀磁场,在所述磁场的作用下,流场中的磁性磨粒被磁化,受磁场力作用向工件表面运动;所述磁性磨粒为镀镍碳化硅磨粒。本发明使碳化硅工件抛光后表面粗糙度均匀、表面质量提高、加工效率提高的。
📄 2019106758792
📂 B24B1_00
👤 浙江工业大学
📅 2019-07-25
本发明公开了一种基于光催化‑光增稠协同的镍基合金抛光方法及装置;其通过集成式双光系统同步触发光催化工件表面改性与光触发抛光液增稠,实现表面软化与介质增稠的双驱动加工。采用负载TiO2/ZnO光催化剂的复合磨粒,在紫外光照射下对镍基合金表面形成低硬度氧化层,降低加工阻力;通过偶氮苯类/肉桂酸类光致变色分子实现抛光液黏度精准调控,配合剪切诱导颗粒团聚形成双增稠体系,提升黏度稳定性。本发明解决了镍基合金加工硬化、传统剪切增稠抛光液黏度波动大、加工均匀性差的技术痛点,提高加工效率和工件表面质量,适用于Inconel 718、GH4169等难加工镍基合金的高效精密加工。
📄 2026104769557
📂 B24B1_00
👤 浙江工业大学
📅 2026-04-13
本发明公开了一种利用液态金属进行导电工件盲孔抛光的装置及其方法,包括工作台、移动定位装置、旋转流道装置和旋转磁场装置,移动定位装置安装在工作台上,旋转流道装置安装在移动定位装置上,旋转磁场装置固定在旋转流道装置斜下方的工作台上;本发明可以对盲孔类工件的盲孔进行抛光,通过抽气使待抛光工件的盲孔处于负压状态,使得磨粒流可以更顺利的进入盲孔中。本发明使用的磨粒流为液态金属磨粒流,在环形永磁体产生的旋转磁场的作用下液态金属磨粒流内的金属粒子会与待加工工件表面形成良好接触,进行微量切削,不会导致待加工工件的盲孔表面产生机械变形;使得抛光效率更快,效果更佳且进行微量切削。
📄 2019109841912
📂 B24B1_00
👤 浙江工业大学
📅 2019-10-16
本发明涉及电极材料处理方法领域,尤其涉及一种提高镍钛合金催化性能的表面粗糙化方法。所述方法包括以下步骤:对平板镍钛合金进行预处理后,对其进行金相打磨粗造化处理和后续的去合金化处理;所述金相打磨粗造化处理处理为砂纸打磨处理;所述砂纸打磨处理至少选用2种不同目数的砂纸各进行至少一次打磨,且第N+1次打磨所用砂纸目数不低于第N次打磨所用砂纸目数。所述去合金化处理为氢氟酸(HF)溶液的腐蚀处理,去除部分钛元素,暴露出活性位点。本发明处理方法简洁高效,适用于产业化处理;处理成本低;借助材料表面粗糙化能够有效提高镍钛合金的对甲醇的电催化氧化性能。
📄 2019113961071
📂 B24B1_00
👤 浙江工业大学
📅 2019-12-30
本发明用于大长径比微孔电场辅助微磨粒抛光系统及方法,系统包括抛光模块、磨料循环模块、电荷加载模块、控制模块,抛光方法包括实验平台的搭建、工件的固定、正负电荷的加载及利用带电磨粒的撞击实现抛光。本发明采用电场辅助,使得磨粒和工件内表面分别附加上负电荷和正电荷,由于电荷的尖端聚集效应,内表面的峰处聚集大量正电荷,对磨粒产生额外的吸力,有效解决了传统抛光方法抛光精度一致性难以保持的问题,能适应各种复杂孔壁的工件,且相较于传统抛光装置,耗能更低。
📄 2022108805319
📂 B24B1_00
👤 浙江工业大学
📅 2022-07-25
本发明公开了半球谐振子约束流场力流变抛光‑调平装备及方法;所述抛光‑调平装备包括直线移动平台、清洗干燥装置、力流变约束模块、在位检测装置和液压动力装置;直线移动平台用于调整半球谐振子的位置,且直线移动平台上设有用于装夹半球谐振子的工件主轴;清洗干燥装置用于对抛光后的半球谐振子进行清洗和干燥;力流变约束模块用于对半球谐振子进行抛光,其内部设有两个分别与A磨料缸和B磨料缸相连接的约束流道;在位检测装置用于检测出半球谐振子的不平衡质量和不平衡位置,便于对半球谐振子进行调平修正;液压动力装置包括与液压站相连接的A液压缸和B液压缸;A液压缸和B液压缸分别与A磨料缸和B磨料缸的活塞相连接。
📄 2024100130579
📂 B24B1_00
👤 浙江工业大学
📅 2024-01-04
本发明公开了一种用于剪切增稠抛光的确定性抛光方法及抛光装置,该方法部分包括:待加工表面的离散化,使用测量、插值方法以离散化的控制点坐标在计算机中表示待加工表面;抛光点可控材料去除矩阵计算策略,规划抛光点,对比待加工表面和目标表面,计算控制点位置的材料去除余量,计算各个抛光点的影响区域以及对控制点的影响,以相邻抛光点去除余量单点模型加权值为标准可控地合并抛光点,得到材料去除矩阵;迭代‑NNLS(非负最小二乘)联合驻留时间算法,对材料去除矩阵先使用迭代的方法计算抛光点的驻留时间,降低驻留时间求解结果的波动,再在此基础上使用NNLS(非负最小二乘)算法进一步提高结果的精度。
📄 2024118335677
📂 B24B1_00
👤 浙江工业大学
📅 2024-12-13
一种四通阀阀座底面的高效高精度加工方法,包括以下步骤:固着磨粒陶瓷上研磨盘与固着磨粒陶瓷下研磨盘构成双面研磨机器,控制上、下固着磨粒陶瓷研磨盘分离;在双面行星轮夹具上下工件槽中安装阀座零件并将双面行星轮夹具安装在上、下固着磨粒陶瓷研磨盘之间;操作控制面板,控制固着磨粒陶瓷上研磨盘下降到与阀座零件接触,设置好研磨加工的加工参数,包括研磨载荷,太阳轮、齿圈、固着磨粒陶瓷上研磨盘、固着磨粒陶瓷下研磨盘的转速以及时间等,进行研磨加工,本发明阀座零件在双面行星轮夹具中既能围绕太阳轮的中心轴公转,又能围绕双面行星轮夹具的中心轴进行自转,研磨轨迹更加复杂均匀,有利于阀座零件底面材料的均匀去除。
📄 2022105804600
📂 B24B1_00
👤 浙江工业大学
📅 2022-05-26
本发明公开了一种机械与光化学流体抛光集成式辅助加工平台及联合抛光方法;该平台包括机架、用于夹持和移动工件的工件转移机构、机械流体抛光模块和光催化检测反馈模块。机械流体抛光模块包括两用抛光槽体、机械抛光组件和光催化流体抛光组件。本发明在光催化流体抛光腔室中设置遮光区域,并分别检测遮光区域内外的氧化还原电位,通过求差获得光激发ORP值,并根据调节紫外光强度,使得光激发ORP值维持在理想区间内,保持整个光催化流体抛光流程的高效可靠;由于光激发ORP排除对抛光液中对工件表面氧化贡献微小的原有物质氧化性的影响,故其能够准确衡量因光催化产生的羟基自由基增量,提高本发明中光催化流体抛光流程的控制精准性。
📄 2025102112851
📂 B24B1_00
👤 浙江工业大学
📅 2025-02-25