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碳化硅平面的芬顿反应和洛伦兹力协同抛光方法

Name: 碳化硅平面的芬顿反应和洛伦兹力协同抛光方法
Brand: 浙江工业大学
SKU: 2019104436991
Availability: InStock

📄 申请号：CN201910443699.1 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2019-05-27

公开号

CN110355613B

公开日

2021-02-26

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24B1_00

IPC 分类号

B24B1_00 , B24B41_06 ,

技术画像

所属领域

化学机械抛光化学机械抛光超精密加工碳化硅材料加工

应用场景

碳化硅晶圆加工, 半导体制造, 功率半导体器件制造, 精密表面加工

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摘要

一种碳化硅平面的芬顿反应和洛伦兹力协同抛光方法，碳化硅平面抛光通过低压磨粒流实现；低压磨粒流的流道顶面倾斜角度可调，通过更换置于加工装置内的角度块零件实现；芬顿反应是对碳化硅工件的表面预处理，在抛光前通过芬顿反应使碳化硅工件表面生成二氧化硅薄层，降低工件表面硬度；洛伦兹力为磁场对带电磨粒的作用力；磁场为置于加工装置后方的电磁铁所产生的平行于工件表面且垂直于磨粒流流动方向的强度可调均匀磁场，在所述磁场的作用下，流场中运动的带正电磨粒受到垂直指向工件表面的洛伦兹力作用，向工件表面运动；带正电磨粒为表面带正电荷的氧化铝磨粒。本发明抛光后工件表面粗糙度均匀、表面质量高、加工效率高。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN110355613B

购买这项专利需要经过哪些流程？

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该专利的转让价格是多少？

当前标价为议价，可委托平台代购或预约谈判。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

丁酰氨基苯并[d]氮杂*基喹唑啉类在制备治疗肺癌药物中的应用

当前第 / 件

一种核苷水解酶突变体、工程菌及应用

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：44 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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