发明专利已授权

梯度或渐变折射率薄膜的光学常数测量装置及方法

📄 申请号：CN201811149497.8 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2018-09-29

公开号

CN109001122B

公开日

2023-05-26

申请人

西安工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G01N21_21

IPC 分类号

G01N21_21

技术画像

所属领域

测量装置光学测量技术薄膜光学折射率测量测量装置

应用场景

光学薄膜生产检测, 镀膜工艺质量控制, 半导体薄膜检测, 光学器件研发, 材料科学分析

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摘要

本发明涉及一种梯度或渐变折射率薄膜的光学常数的测量装置及方法。所述装置包括真空系统、椭偏参数检测系统、膜厚监控系统和离子源，所述真空系统包括真空室和样品台；所述膜厚监控系统包括石英晶振膜厚仪；所述样品台安装在真空室顶部，离子源安装在真空室底部，离子源的离子束输出口正对样品台设置。测量方法是：先测量梯度折射率薄膜样品的初始椭偏参数，用离子束对薄膜进行减薄，再测量减薄后薄膜的椭偏参数，反复进行减薄、测试步骤，直到薄膜减薄到设定步长以下，即可得到最后一薄层的折射率和消光系数，在此基础上可依次得到其上各薄层的光学常数，最终获得薄膜样品沿厚度方向的光学常数分布，实现梯度折射率薄膜光学常数的测量。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20230526

✅ 授权

20190108

?? 实质审查的生效：

20181214

📄 公开

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