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发明专利
已授权
一种双折射晶体及其制备方法
📄 申请号:CN202111610771.9
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2021-12-27
公开号
CN114277444B
公开日
2022-11-08
申请人
四川师范大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C30B29_54
IPC 分类号
C30B29_54
,
C30B7_08
,
C30B7_04
,
C30B1_10
,
技术画像
所属领域
光学晶体
光学晶体
晶体生长
功能材料
应用场景
光通信, 激光器件, 偏振光学, 光学仪器
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摘要
本发明公开了一种双折射晶体及其制备方法,该双折射晶体的化学式为[C(NH2)3]Sb(C2O4)F2(H2O)或RbSb(C2O4)F2(H2O),其中[C(NH2)3]Sb(C2O4)F2(H2O)可以通过低共熔溶剂、溶剂挥发或水热反应制备,RbSb(C2O4)F2(H2O)可以通过水热反应制备。本发明制备的双折射晶体在546nm处的双折射率为0.165~0.339,比著名的双折射材料a‑BaB2O4的双折射率更高,并且晶体无色透明,化学稳定性好,可以开拓紫外波段的线性光学应用范围。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
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