发明专利 已授权

光化学机械研磨方法及光敏活性研磨液

📄 申请号:CN202310037046.X 📄 发布日:2026/06/16

著录项目信息

申请日
2023-01-10
公开号
CN116038551B
公开日
2023-12-29
申请人
燕山大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 晶圆平坦化, 光学元件加工, 精密表面处理, 电子器件制造

摘要

本发明提供一种光化学机械研磨方法及光敏活性研磨液,研磨的步骤为:搭建具备紫外光全波段覆盖而强度能调整且避光的光化学机械研磨平台;启动光化学机械研磨平台对金刚石固结磨料研磨盘进行对磨;调整紫外光LED灯得到合适波长和强度的紫外光,利用紫外光辐照能量诱导光敏研磨液中光引发剂复配物裂解产生苯甲酰和烷基自由基,引发工件表面材料形成硬度低、弹性模量小和断裂韧性高的改性层,对磨改性层得到研磨后的工件。配置光敏活性研磨液,其包括光引发剂复配物、丙二醇、甘油和去离子水。本发明利用光敏研磨液对机械力作用下的工件进行紫外光可控化学改性,减小甚至消除机械应力去除造成的加工损伤,从而实现难加工材料高质量高效率超精密加工。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

……

……

图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:54 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

资金托管 权属尽调 包过户
🏢 淄博智来知识产权服务有限公司
✓ 企业认证✓ 手机绑定历史成交 0件好评率 98.5%

📊 出价记录 (3条)
王**¥-10万
李** 企业¥-8万
陈**¥-3万
查看全部出价