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本发明公开了一种连续协同作业式模块化光催化辅助化学机械抛光装置及方法；该装置包括机床、模块化机械抛光模块、可调式紫外光灯照射模块和抛光安装模块。模块化机械抛光模块装夹在机床的主轴上。模块化机械抛光模块包括沿着主轴的周向依次排列的多个模块化叶片。本发明在叶片状的抛光结构上方布置紫外灯，使得紫外灯射出的紫外光能够通过抛光叶片之间的缝隙照射到抛光液和试样上，从而引发光催化辅助的化学腐蚀，实现了光催化化学腐蚀与机械抛光的同时执行，避免了现有技术中先将试样置于光催化装置中处理，再置于机械抛光机床中加工的复杂操作并提高了抛光效率。同时，本发明通过相邻的模块化叶片内端相互嵌合减小安装模块化叶片的槽盘直径。

本发明公开一种空化和芬顿反应辅助的低压均匀化抛光方法和装置，该方法先利用芬顿反应对待加工工件进行预处理，在其表面生成二氧化硅腐蚀层，降低其表面的硬度，再利用空化效应，在磨粒流中产生空化泡，增大磨粒的运动随机性，使碳化硅表面附近的磨粒动能更大，以提高加工效率。用经空化作用的磨粒流抛光芬顿预处理的碳化硅工件，并采用与工件表面所夹角度可调的约束模块，使磨粒流在流动方向上对加工表面的剪应力均匀，达到均匀抛光的目的。采用本发明的抛光方法和装置抛光的工件表面均匀、加工效率高、表面粗糙度低、表面质量高。

本发明提供一种光化学机械研磨方法及光敏活性研磨液，研磨的步骤为：搭建具备紫外光全波段覆盖而强度能调整且避光的光化学机械研磨平台；启动光化学机械研磨平台对金刚石固结磨料研磨盘进行对磨；调整紫外光LED灯得到合适波长和强度的紫外光，利用紫外光辐照能量诱导光敏研磨液中光引发剂复配物裂解产生苯甲酰和烷基自由基，引发工件表面材料形成硬度低、弹性模量小和断裂韧性高的改性层，对磨改性层得到研磨后的工件。配置光敏活性研磨液，其包括光引发剂复配物、丙二醇、甘油和去离子水。本发明利用光敏研磨液对机械力作用下的工件进行紫外光可控化学改性，减小甚至消除机械应力去除造成的加工损伤，从而实现难加工材料高质量高效率超精密加工。

本发明公开了磨料与晶圆衬底摩擦化学反应的实现装置及其实现方法，实现装置包括主轴模块、液池模块及装夹模块；该主轴模块包括主轴、转接盘、供晶圆衬底固设其上的样品台和加热器；该液池模块包括液池、盖板、固定环及进液管，该液池包括设有安装通孔的池底、池内壳、池外壳和设有样品口的池盖；该装夹模块包括加载装置、样品夹杆和硬质磨料压头。它具有如下优点：通过硬质磨料压头与晶圆衬底的划擦实验，还原加工过程中划擦速度、载荷、温度和润滑状态，进而研究硬质磨粒与晶圆之间的界面作用关系，有助于揭示硬质磨料与晶圆衬底界面摩擦化学反应的作用机制，在半导体晶圆衬底的高效超精密加工领域具有良好的应用前景，且装置简单、操作方便。

本发明属于抛光技术领域，更具体地，涉及一种抛光液、磷化铟抛光装置及方法，其中抛光液包括基液以及混合于基液中的金属粉末、磨料；金属粉末与磨料的质量比为1:2～1:4，金属粉末的金属性弱于铟。本发明中一方面通过金属接触腐蚀反应将磷化铟表面氧化，从而降低磷化铟表面的硬度，其避免了使用酸性物质或碱性物质生成有毒气体危害工作人员安全或污染环境，同时还避免了抛光液对抛光装置的腐蚀。

本实用新型涉及打磨切割设备技术领域，尤其是一种抛光垫修整装置。其包括操作台，所述操作台上安装有电机，所述电机的输出端连接有磨盘，所述磨盘外圈固定安装有切具，所述操作台上开设有积尘槽，积尘槽位于磨盘的侧面，所述操作台上设有弧坡，所述弧坡位于切具的正前方，所述弧坡的侧方开设有凹槽，所述凹槽内设有自动回移组件，自动回移组件上安装有放置板。本实用新型通过设置自动回移组件，当工作人员手持被修整的抛光垫并将手部放置在放置板上，利用滑块在滑杆上滑动和弹簧的回弹作用，使得工作人员在修整抛光垫时手部不会抖动，从而增加修整的效果。