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发明专利
已授权
一种生长Fe掺杂单层WS2二维晶体的方法
📄 申请号:CN202010096253.9
📄 发布日:2026/05/07
著录项目信息
申请日
2020-02-17
公开号
CN111218717A
公开日
2020-06-02
申请人
燕山大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C30B29_46
IPC 分类号
C30B29_46
,
C30B25_02
,
技术画像
所属领域
二维材料
二维材料
晶体生长
掺杂技术
应用场景
电子器件, 光电器件, 传感器, 催化剂
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摘要
本发明涉及一种生长Fe掺杂单层WS2二维晶体的方法,属于无机半导体纳米材料制备的技术领域,其包括以下步骤:以Fe2O3、NaCl、WO3、S为原料,在多温区管式炉里面以Si/SiO2为基底,通过S单质对WO3及Fe2O3同时硫化,共同参与成键,使Fe取代部分WS2单层二维晶体中W的位置,通过化学气相沉积的方式制备得到Fe掺杂单层WS2二维晶体。本发明所述的方法步骤简单、操作方便,合成速度快且成本低,制备得到的Fe掺杂单层WS2二维晶体结晶性好,化学及热力学性能稳定。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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当前第 / 件
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