发明专利 已授权

一种明暗场和白光干涉的缺陷检测系统和检测方法

📄 申请号:CN202310732581.7 📄 发布日:2026/05/07

著录项目信息

申请日
2023-06-20
公开号
CN117110290B
公开日
2025-08-12
申请人
华侨大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体晶圆检测, 工业表面缺陷检测, 精密制造质量检测, 材料表面形貌测量

摘要

本发明公开了一种明暗场和白光干涉的缺陷检测系统和检测方法,该系统包括明暗场缺陷检测模块、白光干涉缺陷检测模块、传输模块和上位机模块。明暗场缺陷检测模块包括明场成像和暗场成像,通过逐点扫描实现图案化蓝宝石衬底的全局缺陷检出;根据明暗场缺陷检测模块的缺陷检出以及传输模块的缺陷定位,白光干涉缺陷检测模块实现缺陷的高精度定量检测。上位机模块包括传输模块的控制、图像采集控制以及图像数据处理模块,其图像数据处理模块包括明场图像和暗场图像的缺陷位置提取和白光干涉模块的缺陷三维形貌恢复;传输模块包括明暗场缺陷检测模块的逐点扫描检测提供位移和缺陷的定位。它不仅解决图案化蓝宝石衬底大范围缺陷检测而且能实现缺陷的三维形貌高精度测量。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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