发明专利 已授权

一种提高小间距铜柱焊接效果的结构

📄 申请号:CN201810011218.5 📄 发布日:2026/07/27

著录项目信息

申请日
2018-01-05
公开号
CN108015391A
公开日
2018-05-11
申请人
深圳市合利来科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体封装, 芯片互连, 集成电路制造, 微电子组装, 高密度封装

摘要

本发明公开了一种提高小间距铜柱焊接效果的结构,包括结构主体,所述结构主体的中间设有工作台,所述工作台内部的中间设有气体保护电弧焊机,所述气体保护电弧焊机的上侧壁设有法兰,所述法兰的上端连接有气焰喷管,所述气焰喷管的另一端连接有焊接盘,所述工作台内部的左侧上方和右侧上方均设有凸台,所述凸台的上方连接有驱动机构,所述焊接管内部的中间设有套管,所述套管的外侧壁设有支撑杆,所述焊接管前端的内侧壁设有锡丝盘,所述工作台下方的左侧和右侧均设有支架,所述工作台下方的中间设有电机箱。该提高小间距铜柱焊接效果的结构结构简单,使用方便,能够很好提高小间距铜柱焊接效果的同时,还保护了环境。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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