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著 录 项 目:
专利/申请号: | CN202322544376.6 | 专利名称: | 一种辅助湿制程设备 |
申请日: | 2023-09-19 | 申请/专利权人 | 华林科纳(江苏)半导体设备有限公司 |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | 江苏省南通市如皋市城南街道新桃路90号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H05K3/00 分类检索 |
公开/公告日: | 2024-06-11 | 转让价格: | 【平台担保交易】 |
公开/公告号: | CN221127563U | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
浏览量: | 5 | 所属领域: | 半导体制造设备 湿法工艺辅助装置专利转让搜索 |
应用场景:集成电路生产线上的晶圆清洗工序;先进封装中的表面处理环节;化合物半导体材料的蚀刻前预处理;高精密电子元件的去污工艺;纳米级薄膜沉积前的基板准备
摘 要:本实用新型提供有一种辅助湿制程设备,包括基座,所述搅拌箱顶部设有进液口,所述进液口底部设有过滤网,所述电机顶部设有转轴,所述搅拌箱顶部设有连接管,所述喷头底部设有净化箱,所述输送管顶部设有控制旋钮,所述排液口侧边设有排液盖。该辅助湿制程设备,通过电机的安装,通过电机的启动带动转轴进行转动,再通过转轴的转动带动搅拌杆进行转动,通过搅拌杆的转动对输入到搅拌箱内的处理液或清理液进行搅拌,确保处理液或清洗液通过搅拌杆的搅拌能混合的更加均匀,防止在对电路基板进行清洗时,出现液体均匀性不佳,导致难以对电路基板进行清洗,从而导致无法将电路基板上的废气进行处理,达到有效提高装置的清洗效率。
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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