本发明公开了一种基于形状梯度的实现液滴自驱动的功能层，划分成多个区域，每个区域均具有多个亲水的图案，图案以外部分疏水；所述图案按照矩阵式排列，且各个区域的矩阵排布一致，单个图案面积一致；同一个区域中，各个图案的各向异性因子相同，从基体加样端沿基体轴向方向向基体检测端，各个区域内图案的各向异性因子依次增大；本发明创新性地提出了仅通过改变微图案形状以建立一个各向异性梯度的方式来实现液滴的自驱动；不需要外力驱动，在平面微流控系统中可省去外力驱动系统等辅助设备。
📄 2018102592543
📂 G03F7_00
👤 浙江工业大学
📅 2018-03-27
本发明涉及一种整片晶圆纳米压印的装置和方法。它包括工作台、涂铺有抗蚀剂的整片晶圆、脱模用的喷嘴、模板、压印头、压力管路、真空管路和紫外光光源；其中，模板固定于压印头的底面，模板下部侧面设有脱模用的喷嘴；压力管路和真空管路与压印头工作台面两侧面的进气孔相连；涂铺有抗蚀剂的整片晶圆固定于晶圆工作台之上；紫外光光源置于压印头之上。其方法为：1)预处理过程；2)压印过程；3)固化过程；4)脱模过程。本发明具有结构简单、成本低、生产率高、精度高、压印面积大、适合规模化制造以及不平整晶圆的整片压印的特点。可用于高密度磁盘、微光学器件、微流体器件等的规模化制造，尤其适合光子晶体LED的整片晶圆的图形化。
📄 201010600735X
📂 G03F7_00
👤 青岛理工大学
📅 2010-12-22
本发明公开了一种整片晶圆纳米压印光刻机，它包括压印头、曝光系统、模板、承片台、脱模喷嘴、机架、大理石底座、真空管路和压力管路，其中，模板固定于压印头上，承片台置于模板的垂直正下方，并固定在大理石底座上，承片台周边设有脱模喷嘴；曝光系统的紫外光源置于压印头内；真空管路和压力管路均与压印头相连；真空管路还与承片台相连。本发明还公开了使用该设备实现整片晶圆纳米压印的方法。本发明的整片晶圆纳米压印光刻机，具有结构简单、适应性广、操作方便、制造成本低和可靠性高等优点，可应用于LED图形化、微透镜、微流体器件的制造，尤其适合光子晶体LED的低成本和规模化制造。
📄 2011102662510
📂 G03F7_00
👤 青岛理工大学
📅 2011-09-08
本发明公开了一种适用于整片晶圆纳米压印的自适应承片台，它包括固定基座、浮动底座、真空吸盘和真空管路。其中，真空吸盘固定于浮动底座的上平面；固定基座具有凹形球形结构，浮动底座具有凸形球形结构，固定基座与浮动底座之间为半球形接触。本发明通过固定基座与浮动底座之间的球形接触配合产生相对滑动实现模板与基片平行自适应调整和楔形误差的补偿；采用真空负压实现浮动底座在固定基座上的锁紧和固定，保持调平后基片和模板之间的相对位姿，确保在压印过程中模板与基片之间的平行。本发明具有结构简单、调整方便、成本低、适应性广和柔性高等优点，可应用于整片晶圆纳米压印，尤其适用于大尺寸晶圆整片纳米压印工艺和装备。
📄 2011102662667
📂 G03F7_00
👤 青岛理工大学
📅 2011-09-08
本发明公开了一种用于蓝宝石衬底图形化的纳米压印装置及方法。该装置包括：纳米压印模具，紫外纳米压印用抗蚀剂，蓝宝石衬底，曝光用的紫外光光源。其中，抗蚀剂涂铺于蓝宝石衬底之上，曝光用紫外光光源置于蓝宝石衬底正下方，在纳米压印模具上设有特征型腔，从而构成模具上的特征图形。本发明利用改性氟碳树脂基硬聚合物模具具有非常低的表面能、兼具软、硬模具的优势，以及良好的机械和物理性能，并结合蓝宝石衬底对于紫外光良好的透光性能，实现4英寸以上大尺寸晶圆级纳米图形化蓝宝石低成本、高生产率和规模化制造。本发明也可用于其它透明衬底（如ZnO衬底）的图形化。
📄 201210049910X
📂 G03F7_00
👤 青岛理工大学
📅 2012-02-29
本发明公开了一种适用于非平整衬底晶圆级纳米压印的装置和方法。其方法为：引入一种氟聚合物基薄膜结构复合软模具，压印采用气体辅助“微接触”和“流体介电泳力”驱动实现液态聚合物在很小压印力条件下对于模具纳米结构腔体的快速完全填充；脱模基于氟聚合物基极低表面能，并结合“两次固化”和“揭开”式脱模方法，采用微小的脱模力即可实现大面积脱模。本发明实现了在非平整（弯曲、翘曲或者台阶）或曲面或者易碎衬底制造大面积微纳米结构，具有复形精度高、压印面积大、效率高、成本低的显著优势，适用于LED纳米图形化技术、光学器件（如光学透镜）、蝶式太阳能聚光器、微流控器件等器件的制造。
📄 2012100500107
📂 G03F7_00
👤 青岛理工大学
📅 2012-02-29
本发明公开了一种大面积纳米压印光刻的装置和方法。它引入一种氟聚合物基薄膜结构复合软模具，压印过程采用“气体辅助施压”和模具微进给“压力施压”方式；脱模基于氟聚合物基极低表面能，并结合“两次固化”和“揭开”式脱模方法，采用微小的脱模力即可实现大面积脱模。本发明实现了在各种衬底包括非平整（弯曲、翘曲或者台阶）或曲面或者易碎衬底上制造大面积微纳米结构，具有复形精度高、压印面积大、效率高、成本低、模具寿命长的显著优势，适用于LED纳米图形化技术、光学器件（如光学透镜）、蝶式太阳能聚光器、微流控器件等器件的制造。
📄 2012100505717
📂 G03F7_00
👤 青岛理工大学
📅 2012-02-29
本发明公开了一种用于非平整衬底晶圆级纳米压印的复合软模具及制造方法。该复合软模具包括：特征结构层、刚性限制层和弹性支撑层。其中，特征结构层包含所要复制的微纳米图形结构，采用透明的氟聚合物基材料；刚性限制层位于特征结构层之上，限制特征结构层的横向变形和纵向变形；弹性支撑层位于刚性限制层上。该复合软模具的制造方法包括：（1）制造母模；（2）制造并结合刚性限制层和弹性支撑层；（3）制作特征结构层；（4）结合特征结构层和刚性限制层；（5）脱模。该复合软模具的显著的优点：高精度、大面积、与非平整衬底良好的共形接触能力、易于脱模和长的使用寿命，它特别适合于大尺寸、高分辨率非平整衬底晶圆级纳米压印工艺。
📄 2012103721243
📂 G03F7_00
👤 青岛理工大学
📅 2012-09-29
本发明涉及一种环保型免处理感光胶，该感光胶由以下重量份的组分组成：红外吸收染料8-10份，所述红外吸收染料吸收光谱波长在700nm-1100nm；纳米聚合物微球45-60份，乳化剂6-8份，所述乳化剂为双亲性乳化剂单硬脂酸甘油酯；去离子水45-60份；纳米碘单质10-20份；挥发性有机溶剂10-20份；氧化剂和还原剂各3-5份。本发明通过在胶体中引入遮光性材料，从而提高其存储时间，即使是在(自然光源)光照的照射下也能长时间存放。
📄 2018105647069
📂 G03F7_004
👤 成都华维印刷器材有限公司
📅 2018-06-04
已申报项目
本发明涉及一种环保型免处理感光胶制备工艺，其步骤分为：油相配置，将吸收光谱波长在700nm-1100nm的红外吸收染料8-10份和纳米聚合物微球45-60份的对应单体溶解均匀后加入反应瓶中待用；水相配置，将去离子水45-60份、乳化剂6-8份、挥发性有机溶剂10-20份混合均匀，然后加入纳米碘单质10-20份继续搅拌混合均匀待用；混合均匀，将步骤S1和步骤S2中的两种混合液进行混合搅拌均匀得到乳状液；聚合反应，向乳状液中加入加入含氧化剂的水溶液，引发聚合反应；反应持续3-10小时，再加含还原剂的水溶液，继续反应3-5小时得到稳定的含红外吸收染料的聚合物乳液。本发明通过在胶体中引入遮光性材料，从而提高其存储时间，即使是在(自然光源)光照的照射下也能长时间存放。
📄 2018105646954
📂 G03F7_004
👤 成都华维印刷器材有限公司
📅 2018-06-04
已申报项目
本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及一种光刻胶组合物及其制备方法；包括原料为对羟基苯乙烯共聚物30～45份、三苯基硫鎓盐2～4份、金属团簇物8～15份、环氧乙烷10～20份、自由基光引发剂2～3份、溶剂30～40份；以对羟基苯乙烯共聚物为主体、三苯基硫鎓盐为光致产酸剂，添加金属团簇物增加对紫外光的吸收，枝状环氧乙烷树脂在酸性条件下，发生开环反应后再彼此连接，形成交联网状结构，降低光刻胶膜的溶解性，添加自由基光引发剂，制备成负性光刻胶组合物，对深紫外光具有较强的吸收能力，提高了光刻胶的灵敏度和抗刻蚀性能，光刻胶的最小分辨尺寸小，光照区域形成网状结构，不易被洗脱，负性光刻胶整体性能得到提高。
📄 2023101056906
📂 G03F7_004
👤 吴佳敏
📅 2023-02-13
本实用新型公开了一种纳米模板压印装置，包括底座，所述底座顶部的两侧均安装有支柱，所述支柱的顶部安装有顶板；所述顶板的底部安装有电动推杆，所述电动推杆的伸缩端安装有连接板，所述连接板的底部安装有固定机构，所述固定机构的内部安装有纳米模板本体；本实用新型通过设置固定机构，能够方便将纳米模板本体从框架内进行拆卸，起到便于对纳米模板本体进行更换的目的，提高了压印的灵活性，框架内能够方便更换不同样式的纳米模板本体，提高了适用性；通过移动支撑板，可以根据不同样式的纳米模板本体对支撑板的位置分别进行对应的调节，在调节之后，通过限位组件进行定位，从而提高该压印转轴的灵活性。
📄 2022232808765
📂 G03F7_00
👤 南昌瀚宸新材料科技有限公司
📅 2022-12-08
已申报项目
柿子坊 · 知识产权运营
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