发明专利已授权

用于蓝宝石衬底图形化的纳米压印装置及方法

📄 申请号：CN201210049910.X 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2012-02-29

公开号

CN102591142B

公开日

2013-03-27

申请人

青岛理工大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G03F7_00

IPC 分类号

G03F7_00 , G03F7_20 , H01L33_00 ,

技术画像

所属领域

纳米压印纳米压印微纳加工半导体制造工艺

应用场景

LED芯片制造, 半导体照明, 光电子器件, 微纳结构加工, 半导体衬底制备

AI 智能推荐 · 同申请人专利 · 搜索相似专利

摘要

本发明公开了一种用于蓝宝石衬底图形化的纳米压印装置及方法。该装置包括：纳米压印模具，紫外纳米压印用抗蚀剂，蓝宝石衬底，曝光用的紫外光光源。其中，抗蚀剂涂铺于蓝宝石衬底之上，曝光用紫外光光源置于蓝宝石衬底正下方，在纳米压印模具上设有特征型腔，从而构成模具上的特征图形。本发明利用改性氟碳树脂基硬聚合物模具具有非常低的表面能、兼具软、硬模具的优势，以及良好的机械和物理性能，并结合蓝宝石衬底对于紫外光良好的透光性能，实现4英寸以上大尺寸晶圆级纳米图形化蓝宝石低成本、高生产率和规模化制造。本发明也可用于其它透明衬底（如ZnO衬底）的图形化。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种适用于非平整衬底晶圆级纳米压印的装置和方法

当前第 / 件

单畴钇钡铜氧超导块材的制备方法

同领域国内专利 · IPC: (G03F7_00)

G03F7_00 G03F7_004 G03F7_033 G03F7_09 G03F7_11 G03F7_16 G03F7_20 G03F7_30 G03F7_38 G03F7_40 G03F7_42 覆盖11个领域

相似专利推荐 AI 驱动 · 同领域

暂无同领域相似专利推荐

议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：30 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

资金托管权属尽调包过户

🏢 淄博智来知识产权服务有限公司

✓ 企业认证✓ 手机绑定历史成交 0件好评率 98.5%

📊 出价记录 (3条)

王**¥-10万

李** 企业¥-8万

陈**¥-3万

查看全部出价

我要出价 (议价)