本发明公开了一种参数初始值的保护方法及装置，该方法包括：确定程序中与待保护初始值对应的参数，其中，所述待保护初始值与所述参数存在第一对应关系；基于所述第一对应关系，将所述参数进行全局变量赋值，建立所述参数与全局变量的第二对应关系；遍历所述程序，将所述第一对应关系替换为所述第二对应关系；建立所述待保护初始值与所述全局变量的第三对应关系并为所述第三对应关系设置访问权限。上述的方法，采用由全局变量和参数组成的第二对应关系替换第一对应关系，并基于第三对应关系显示初始值，由于程序中不包含初始值，而第三对应关系中的初始值需要访问权限才可以访问，两者均未公开初始值，实现了对初始值的保护。
📄 2020107830437
📂 G06F21_10
👤 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
📅 2020-08-06
本发明提供一种元件模型参数编码、解码方法及装置，涉及电路设计技术领域，包括获取元件模型的初始参数；根据预设映射规则将初始参数映射生成映射参数；根据第一预设加密算法将映射参数加密生成第一加密数据；将第一加密数据存储至预设位置。同时设置对应的解码方法以及执行上述步骤的装置。通过上述编码、解码方法既可以保护元件模型的初始参数不会泄露，同时又能方便元件模型开发客户端与用户端的数据分享及使用。
📄 2020107859149
📂 G06F21_60
👤 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
📅 2020-08-06
本实用新型公开了一种厂务气体供应系统及厂务系统。厂务气体供应系统包括：气体供应装置、缓冲装置和监控装置；气体供应装置的输出端与缓冲装置的输入端通过第一管路连接，缓冲装置的输出端用于通过第二管路输出气体到机台设备；缓冲装置与所述监控装置连接，监控装置用于采集缓冲装置的参数，并在参数超过预设值时发出报警信号。本实用新型解决了利用阀门调节气体流量不方便的问题，达到了不用调节阀门即可稳定气体，减小气体波动，避免机台当机的效果。
📄 2021203459842
📂 F17D1_02
👤 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
📅 2021-02-05
本实用新型公开了一种厂务冷却系统及厂务系统。厂务冷却系统包括：供水装置、至少一个冰水机和监控装置；供水装置包括至少一个输出端，供水装置的输出端与冰水机的输入端通过第一管路连接，冰水机的输出端用于通过第二管路输出水到机台设备；监控装置的检测信号输入端与冰水机的检测信号输出端连接，监控装置用于采集冰水机的参数，并当参数超过预设范围时发出报警信号，其中，参数包括冰水机输出水的温度和/或流量。本实用新型解决了进行水的温度和流量的调节不精确的问题，达到了准确控制水的温度和流量，降低成本，并且可以为不同的机台设备提供不同温度的冷却水的效果。
📄 2021204454475
📂 F25D29_00
👤 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
📅 2021-03-01
一种化学机械研磨抛光机台，涉及半导体技术领域，该化学机械研磨抛光机台包括机台本体和盖板，机台本体具有一带有开口的腔室，开口的边缘设置有密封槽，盖板的边缘设置有密封圈，盖板盖合在开口上并覆盖密封槽，密封圈压合在密封槽的底壁和盖板之间，以使盖板和机台密封连接，盖板上还设置有抽气结构，抽气结构与密封槽连通，用于对密封槽抽气，以防止密封槽内的气体泄漏到外部。相较于现有技术，本实用新型可通过抽气结构的抽气动作将泄漏气体从密封槽中抽走，防止腔室内部的气体由密封槽泄漏到外部，防止腔室内部气体大量外泄，有效防止AMC扩散，并提高了整个装置的安全可靠性。
📄 2020220386049
📂 B24B37_34
👤 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
📅 2020-09-16
本实用新型涉及干蚀刻机技术领域，具体公开了一种导流盘安装治具，该导流盘安装治具包括支撑架、定位组件与支撑部，其中，支撑架为环形；定位组件设于支撑架，定位组件被配置为当导流盘安装到上腔体基座时对导流盘进行定位；支撑部固设于支撑架，支撑部用于供使用者抓持以转移导流盘安装治具，支撑部还用于支撑导流盘安装治具。本实用新型的定位组件能够控制导流盘与上腔体基座之间的缝隙，在导流盘安装过程能够控制导流盘与上腔体基座之间各处的缝隙一致，确保了导流盘安装位置准确的同时，缩短了反复拆装校准时间，提高工作效率，在维修保养时，还能减少人员技术不同对安装质量的差异。
📄 2021201661505
📂 B25B11_00
👤 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
📅 2021-01-21
本实用新型提供一种机台气体置换设备，涉及半导体设备领域，该机台气体置换设备包括机台腔体、置换管道、抽气管道和气体加热装置，所述置换管道与所述机台腔体连接，用于向所述机台腔体内通入保护气体，所述抽气管道与所述机台腔体连接，用于抽取所述机台腔体内的气体，所述气体加热装置与所述置换管道连接，用于对所述置换管道进行加热。相较于现有技术，本实用新型提供的机台气体置换设备，能够快速置换机台腔体内的残存气体，并且快速去除机台腔体内的水汽残存，减少了清洁时间，提高了清洁效率。
📄 2020217285324
📂 F17D1_065
👤 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
📅 2020-08-17
本申请提供一种密封罩系统，包括依次相连的半封闭腔体、密封管和抽气结构，所述半封闭腔体采用硬质板材形成，形状固定，不易变形；而且，通过将半封闭腔体与含氟化物设备之间接合，形成密封腔体，从而能够将含氟化物设备中可能出现漏气的部位罩设住，若出现氟化物泄漏，则可以通过抽气结构将密封腔体内的气体抽离，通过抽气结构末端的气体处理装置对气体进行处理，再排放到大气中，避免了含氟化物设备出现漏气，造成生产环境含氟化物浓度较高，对半导体器件，如芯片进行腐蚀，导致的芯片生产良率较低的问题。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
📄 2020210902440
📂 G01M3_28
👤 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
📅 2020-06-11
本实用新型的实施例提供了研磨头拉伸装置，涉及半导体设备技术领域，该研磨头拉伸装置，用于拉伸研磨头上的橡胶膜，研磨头拉伸装置包括气压产生器、分接气盘和抵持组件，气压产生器与分接气盘连接，用于向分接气盘供气，抵持组件与分接气盘连接，并用于与研磨头保持相对固定，分接气盘用于在气压产生器的作用下以预设压力施加在橡胶膜上。通过气压产生器向分接气盘供气，在抵持组件的限位作用下，分接气盘抵持在研磨头的表面，分接气盘用于在气压产生器的作用下以预设压力施加在橡胶膜上，从而实现对研磨头上的橡胶膜的拉伸作用。相较于现有技术，本实用新型避免了研磨头上机台进行拉伸，避免了机台时间的浪费，提升了整体效率。
📄 2020226197214
📂 B24B37_34
👤 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
📅 2020-11-12
本申请提供了一种磁控溅射基台与磁控溅射设备，涉及基片刻蚀技术领域。该磁控溅射基台包括边缘环与用于承载待加工基板的夹盘，边缘环环绕于待加工基板的外周且与夹盘连接，边缘环的表面高于待加工基板的表面，边缘环的表面设置有Al2O3保护层。本申请提供的磁控溅射基台与磁控溅射设备具有使用寿命长，使用成本低的优点。
📄 2020215758380
📂 C23C14_35
👤 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
📅 2020-07-31
本实用新型公开了一种卡罗酸加热系统，所述卡罗酸加热系统包括：光刻胶清洗室，所述光刻胶清洗室内具有第一加热器，所述第一加热器用于放置待处理芯片，将所述待处理芯片加热至第一温度；预热槽，所述预热槽用于将硫酸加热到第二温度；试剂管路，所述试剂管路用于将双氧水与加热到所述第二温度的硫酸混合为卡罗酸，通过所述卡罗酸清洗加热到所述第一温度的待处理芯片的表面，以去除所述待处理芯片表面的光刻胶；其中，所述第一温度大于所述第二温度。应用本实用新型提供的卡罗酸加热系统，系统结构简单，可以精确的控制芯片表面的温度，避免产片缺陷，提升良率，同时可以达到省电节能的作用。
📄 2020218167005
📂 H01L21_67
👤 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
📅 2020-08-26
本实用新型实施例提供一种真空室，涉及半导体制程技术领域。真空室包括框体、门板、传动组件、步进电机和控制器，框体内具有真空腔，框体的一侧开设有与真空腔连通的入口；门板滑动连接在入口；传动组件的一端连接到门板；步进电机连接在传动组件的另一端；控制器与步进电机电连接，控制器用于控制步进电机驱动门板打开或关闭入口。真空室能够通过步进电机精确控制门板开关的速度和位置，降低门板与框体的撞击力度，减少震动，减少颗粒杂质的产生，提高产品的良率。
📄 2021204446337
📂 E05F15_665
👤 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
📅 2021-03-01
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