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摘 要:一种化学机械研磨抛光机台,涉及半导体技术领域,该化学机械研磨抛光机台包括机台本体和盖板,机台本体具有一带有开口的腔室,开口的边缘设置有密封槽,盖板的边缘设置有密封圈,盖板盖合在开口上并覆盖密封槽,密封圈压合在密封槽的底壁和盖板之间,以使盖板和机台密封连接,盖板上还设置有抽气结构,抽气结构与密封槽连通,用于对密封槽抽气,以防止密封槽内的气体泄漏到外部。相较于现有技术,本实用新型可通过抽气结构的抽气动作将泄漏气体从密封槽中抽走,防止腔室内部的气体由密封槽泄漏到外部,防止腔室内部气体大量外泄,有效防止AMC扩散,并提高了整个装置的安全可靠性。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202022038604.9 | 专利名称: | 化学机械研磨抛光机台 |
申请日: | 2020-09-16 | 申请/专利权人 | 泉芯集成电路制造(济南)有限公司 |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | 山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B24B37/34 半导体 |
公开/公告日: | 2021-05-14 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN213197048U | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |