实用新型 已授权

真空室

📄 申请号:CN202120444633.7 📄 发布日:2026/07/31

著录项目信息

申请日
2021-03-01
公开号
CN215761149U
公开日
2022-02-08
申请人
泉芯集成电路制造(济南)有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 真空镀膜, 真空热处理, 真空包装, 科研实验

摘要

本实用新型实施例提供一种真空室,涉及半导体制程技术领域。真空室包括框体、门板、传动组件、步进电机和控制器,框体内具有真空腔,框体的一侧开设有与真空腔连通的入口;门板滑动连接在入口;传动组件的一端连接到门板;步进电机连接在传动组件的另一端;控制器与步进电机电连接,控制器用于控制步进电机驱动门板打开或关闭入口。真空室能够通过步进电机精确控制门板开关的速度和位置,降低门板与框体的撞击力度,减少震动,减少颗粒杂质的产生,提高产品的良率。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

¥1500.0
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:14 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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🏢 淄博智来知识产权服务有限公司
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