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| 专利/申请号： | CN202011197948.2 | 专利名称： | 一种紫外-可见-近红外硅基光电探测器及其制备方法 |
| 申请日： | 2020-10-30 | 申请/专利权人 | 苏州大学 |
| 专利类型： | 发明 | 地址： | 江苏省苏州市相城区济学路8号 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | 分类号： | H01L31/102分类检索 探测 硅 硅基光电 光电探测专利转让搜索 |
| 公开/公告日： | 2022-05-03 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN112331737B | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
摘 要：本发明属光电领域，公开了一种紫外‑可见‑近红外硅基光电探测器及其制备方法，所述的光电探测器为复合层式结构，沿着光入射方向依次包括透明保护层、粘结剂、正面金属薄膜层、无序纳米碗阵列化硅基底、背面金属薄膜层和底板。正面金属薄膜和无序纳米碗阵列层的复合结构可以显著抑制200～2500nm波段范围内的光反射，硅基底背面的金属薄膜近乎完全反射到达硅基底界面的光子，使得器件整体的透射率接近零。利用无序纳米碗阵列化硅基底及沉积于上的金属薄膜对入射光子的高效吸收和光生载流子的有效收集，本方案可以在室温、无外加偏压下对紫外‑可见‑近红外波段的光子实现显著光电响应和有效探测，且对光子的偏振和入射角度不敏感。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 2022/05/03 | 授权 | |
| 2021/02/26 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): H01L 31/102 专利申请号: 202011197948.2 申请日: 2020.10.30 |
| 2021/02/05 | 公开 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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