发明专利 已授权

一种开放体系SiC纳米线的制备方法

📄 申请号:CN201710550930.8 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2017-07-07
公开号
CN107200331B
公开日
2019-03-05
申请人
浙江理工大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体器件, 复合材料增强, 纳米电子学, 高温结构材料, 传感器

摘要

本发明公开了一种开放体系SiC纳米线的制备方法。将盛有金属硅粉的石英坩埚放入管式炉中间区域,并在管式炉的低温段铺设石墨纸;根据反应所需要的温度来设定管式炉的升温程序,根据液态碳源注射量的多少来设定反应保温时间;当温度达到反应所需要的温度时,开启液态碳源的数字注射泵,将碳源注入管式炉内,液态碳源通过高温裂解气化得到碳源,再通过氩气输送至管式炉反应段进行碳热还原反应;待液态碳源注射结束后,开始启动降温程序降至常温,在石墨纸上沉积有SiC纳米线。本发明首次采用乙醇或丙醇为碳源,硅粉为硅源,在开放体系中制备SiC纳米线。相比于背景技术,具有低能源消耗,工艺简单,无需催化剂和连续制备等优点。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

……

……

图1
图2
图3

法律状态时间线

20190305
✅ 授权
20171027
?? 实质审查的生效 :
20170926
📄 公开

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