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摘 要:本发明涉及单晶硅片制备领域,公开了一种低反射率单晶硅片的制绒方法,包括:1)将壳聚糖‑聚2‑丙烯酰胺基‑2‑甲基丙磺酸钠共聚物、甲基甘氨二乙酸钠、3‑甲氧基‑3‑甲基‑1‑丁醇、苯氧乙醇溶解到水中,混合均匀;2)将制绒添加剂加到碱溶液中,混合均匀;3)将单晶硅片置入制绒液中进行制绒。本发明采用壳聚糖‑聚2‑丙烯酰胺基‑2‑甲基丙磺酸钠共聚物、甲基甘氨二乙酸钠、3‑甲氧基‑3‑甲基‑1‑丁醇、苯氧乙醇等作为制绒添加剂原料,组分绿色环保,制绒时间短,制绒后所获得的单晶硅片上四面方锥体均匀,硅片反射率低。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201810158233.2 | 专利名称: | 一种低反射率单晶硅片的制绒方法 |
申请日: | 2018-02-25 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C30B33/10搜分类 半导体 单晶搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |