发明专利已授权

一种硅基集成曝光量测量器件

Name: 一种硅基集成曝光量测量器件
Brand: 秦皇岛迈博科技服务有限公司
SKU: 2017107437253
Availability: InStock

📄 申请号：CN201710743725.3 📄 发布日：2026/07/06

著录项目信息

申请日

2017-08-25

申请人

秦皇岛迈博科技服务有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G03F7_20

IPC 分类号

G03F7_20

技术画像

所属领域

硅基光电子器件硅基光电子器件集成光学器件光辐射测量

应用场景

半导体光刻, 曝光剂量监测, 集成电路制造, 光学计量, 光电子检测

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摘要

本发明公开了一种硅基集成曝光量测量器件，包括半导体衬底，半导体衬底上从下至上依次设置有绝缘层、导电金属层、金属氧化物结构、导电金属结构、光敏材料层、保护层；金属氧化物结构包括对称设置在导电金属层上的第一金属氧化物块和第二金属氧化物块；导电金属结构包括设置在第一金属氧化物块上的第一导电金属块和设置在第二金属氧化物块上的第二导电金属块；保护层上设置有第一金属电极、第二金属电极和第三金属电极，所述第一金属电极、第二金属电极和第三金属电极均贯穿保护层，其中第二金属电极与光敏材料相接触，第一金属电极和第三金属电极均与绝缘层相接触。本发明可集成且作为独立器件使用，具有应用范围广和使用方便的优点。

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20211026

?? 专利权的转移：

20200529

✅ 授权

20180309

?? 实质审查的生效：

20180209

📄 公开

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📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：40 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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