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| 专利/申请号： | CN201910716725.3 | 专利名称： | 一种利用电场效应增强加工区域酸碱度的锗平面镜化学抛光方法 |
| 申请日： | 2019-08-05 | 申请/专利权人 | |
| 专利类型： | 发明 | 地址： | |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | 分类号： | B24B37/10分类检索 精密加工 研磨抛光 锗单晶 利用专利转让搜索 |
| 公开/公告日： | 转让价格： | 【平台担保交易】 | |
| 公开/公告号： | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
摘 要：本发明公开了一种利用电场效应增强加工区域酸碱度的锗平面镜化学抛光方法，制造高介电常数真空吸盘和高介电常数抛光盘，在抛光盘和基盘的非工作端面涂上高温银浆，接上电极，绝缘处理；将锗平面镜真空吸附在多孔陶瓷基盘上，采用化学抛光液进行抛光加工。本方法的抛光原理为使用高介电常数陶瓷抛光盘，在抛光盘和真空吸附陶瓷基盘接上电极后，在抛光区域产生强电场，氢离子或氢氧根离子向工件表面移动，增强了工件表面酸碱度，提高了抛光液对工件表面的腐蚀性，在液动压流体的剪切作用下，对工件表面进行化学非接触抛光。本方法通过电场实现对工件表面的PH值可控，化学非接触抛光提高了工件表面质量，避免表面磨损。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 2020/05/29 | 授权 | |
| 2019/11/08 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): B24B 37/10 专利申请号: 201910716725.3 申请日: 2019.08.05 |
| 2019/10/15 | 公开 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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