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摘 要:本发明公开了一种氯霉素分子印迹聚合物及其制备方法,以氯霉素为模板分子,以甲基丙烯酸为功能单体,形成主客体配合物,加入交联剂EDMA发生自由基共聚,最后用溶剂甲醇/乙酸混合液将聚合物从溶剂中沉淀出来,得到氯霉素分子印迹聚合物。其中CAP与甲基丙烯酸与EDMA的摩尔比为1:0.5:20。本发明方法生产出具有非常高的选择性和特异性的氯霉素分子印迹聚合物,有较高的稳定性、较长的使用寿命和较强的抗恶劣环境能力。本发明成本低廉、操作简单、反应条件容易控制。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201510628127.2 | 专利名称: | 一种氯霉素分子印迹聚合物及其制备方法 |
申请日: | 2015-09-29 | 申请/专利权人 | 徐州工程学院 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省徐州市新城区丽水路2号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C08F222/14搜分类 分子印迹搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |