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摘 要:本发明提供了一种新型磁力诱导青蒿素分子印迹复合膜的制备及用途,制备方法如下:步骤1、制备Fe3O4;步骤2、Fe3O4表面一步法制备薄层磁性青蒿素分子印迹聚合物;步骤3、制备磁场诱导青蒿素分子印迹复合膜。本发明利用磁场诱导的方法制备的分子印迹膜可以有效的克服传统共混印迹膜制备耗时耗长、识别位点易被包埋的缺点,通过一步法制备印迹聚合物、改变洗脱方式、借助磁场力增加有效识别位点数,进而提高分子印迹效率,具有合成简单高效,选择性效率高等优点。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202010056878.2 | 专利名称: | 一种新型磁性薄层印迹膜的制备方法及用途 |
申请日: | 2020-01-17 | 申请/专利权人 | 吉林师范大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 吉林省四平市铁西区海丰大街1301号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C08F222/14搜分类 磁性材料 分子印迹膜 分子印迹复合膜 功能膜材料 青蒿素提取分离 生物医药搜索 |
公开/公告日: | 2023-03-31 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN111171233B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |