发明专利已授权

一种芬顿辅助三相流动压空化抛光SiC光学曲面方法及装置

📄 申请号：CN201810281076.4 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2018-04-02

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24B31_116

IPC 分类号

B24B31_116 , B24B31_12 , B24B1_04 , B24B57_02 , B24B13_00 ,

技术画像

所属领域

精密加工与抛光技术精密加工与抛光技术空化辅助加工光学曲面制造

应用场景

光学元件加工, 半导体晶圆抛光, 精密表面处理, 碳化硅材料加工, 高端装备制造

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摘要

一种芬顿辅助三相流动压空化抛光SiC光学曲面方法，首先将SiC工件无需加工的部分用隔绝材料包裹，然后将SiC工件浸泡于装有芬顿试剂的反应池中；反应一段时间后，将工件取出并用夹具固定在抛光液容器中；串并混联抛光平台控制圆柱形抛光工具相对于工件的位姿，使抛光工具与工件表面始终保持一个微小的加工间隙，工具与工件完全浸没在抛光液中；由伺服电机驱动圆柱形抛光工具高速旋转，超声波气泡发生机构不断调整变幅杆相对于动压区域的位姿，随着抛光进行，磨粒流循环系统对抛光容器中的磨粒进行循环输送。以及提供一种芬顿辅助三相流动压空化抛光SiC光学曲面。本发明在不造成表面及亚表面的损伤的前提下，提高抛光效率。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20201127

✅ 授权

20181026

?? 实质审查的生效：

20180928

📄 公开

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：19 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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