本发明公开了一种应用有带槽结构单元的球型抛光辊子的抛光工具，包括球型抛光辊子、抛光装置、往复进给装置及测距装置，所述抛光装置包括抛光平台、电机、大齿轮、小齿轮、转轴及轴承，所述电机通过所述大齿轮与所述小齿轮将动力传输至所述转轴，所述球型抛光辊子安装于所述转轴。该抛光工具通过设置球型抛光辊子、抛光装置、往复进给装置及测距装置，能够有效保证球形工件的加工效果，保证加工效果，同时使得整个抛光过程可控，有利于上述抛光工具在抛光技术领域的推广及应用。
📄 2021106389051
📂 B24B31_116
👤 浙江工业大学
📅 2021-06-08
本发明提供了多参数自主调节的液膜剪切抛光装置，包括机座，以及抛光盘模块和工件夹持驱动模块；所述工件夹持驱动模块包括用于夹持工件的载物盘；所述载物盘的下侧设有温度传感器和压力传感器，所述抛光液槽的槽壁上设有PH传感器，所述抛光液槽上方设有PH调节模块，所述PH调节模块能够向抛光液槽中添加PH调节剂；抛光时，控制模块通过BP网络神经模型对当前抛光PH值、抛光温度及工件压力进行评估，再通过遗传优化算法寻找最优抛光参数，最后对抛光参数进行自主调节。本发明还提供了多参数自主调节的液膜剪切抛光方法。本发明通过对抛光参数进行自主调节，有效消除加工过程中因抛光环境变化带来的不稳定性，实现高效、高质量、稳定的抛光加工。
📄 202410082835X
📂 B24B31_116
👤 浙江工业大学
📅 2024-01-19
本发明公开一种化学预处理和介电泳协同作用的碳化硅平面抛光方法和装置，能够解决碳化硅平面抛光不均匀的问题。该方法先利用芬顿反应对待抛光工件进行预处理，在其表面生成二氧化硅腐蚀层，降低工件表面的硬度，再将其放置在一个静止的过流腔体内，并在过流腔体内施加非均匀电场将磨粒极化，导致磨粒受力不均匀而向工件表面发生移动聚集，以提高材料去除率。磨粒流在非均匀电场作用下对芬顿预处理的待抛光工件的平面进行抛光，达到高效均匀抛光的效果。本发明的抛光方法抛光的工件表面均匀、表面粗糙度低、表面质量高、加工效率高。
📄 2019104777623
📂 B24B31_116
👤 浙江工业大学
📅 2019-06-03
本发明公开了一种应用有方型抛光辊子的抛光工具，包括方型抛光辊子、抛光平台、工件架、抛光槽及用于移动方型抛光辊子的X轴进给机构与Z轴进给机构及Y轴进给机构，工件架安装于抛光槽内；Y轴进给机构包括型材架、型材连接件、电机、齿条、齿轮、电机连接件及滑块，型材架通过型材连接件固定于滑块，滑块可滑动的安装于抛光平台，电机通过电机连接件固设于抛光平台，齿轮安装于电机的输出端，齿条与齿轮之间啮合配合且齿条安装于滑块上。该抛光工具结构紧凑，根据仿形加工原理，方型抛光辊子可以加工直角面、矩形盒等工件，提高抛光效率，同时保证抛光效果。
📄 2021106389206
📂 B24B31_116
👤 浙江工业大学
📅 2021-06-08
一种芬顿辅助三相流动压空化抛光SiC光学曲面方法，首先将SiC工件无需加工的部分用隔绝材料包裹，然后将SiC工件浸泡于装有芬顿试剂的反应池中；反应一段时间后，将工件取出并用夹具固定在抛光液容器中；串并混联抛光平台控制圆柱形抛光工具相对于工件的位姿，使抛光工具与工件表面始终保持一个微小的加工间隙，工具与工件完全浸没在抛光液中；由伺服电机驱动圆柱形抛光工具高速旋转，超声波气泡发生机构不断调整变幅杆相对于动压区域的位姿，随着抛光进行，磨粒流循环系统对抛光容器中的磨粒进行循环输送。以及提供一种芬顿辅助三相流动压空化抛光SiC光学曲面。本发明在不造成表面及亚表面的损伤的前提下，提高抛光效率。
📄 2018102810764
📂 B24B31_116
👤 浙江工业大学
📅 2018-04-02
本发明公开了一种用于盲孔抛光的抽压气抛光装置及其方法，包括移动定位组件、流道组件和支撑夹持组件；所述移动定位组件包括工作台、水平模组安装架、水平直线模组、水平模组驱动电机、竖直直线模组和竖直模组驱动电机，所述支撑夹持组件包括支撑块、副夹持头和竖直安装座，所述流道组件包括主夹持头、空心流道固定座、流道固定板、滑轨连接板、抽气口单向阀、气液磨粒流接头、磨粒流入口阀、压气口单向阀、流道接头、空心流道、法兰盘和主夹持端O型圈，本发明可以对盲孔类工件的盲孔进行抛光，通过抽气使待抛光工件的盲孔处于负压状态，使得磨粒流可以更顺利的进入盲孔中。
📄 2019109841927
📂 B24B31_116
👤 浙江工业大学
📅 2019-10-16
一种三相流动压空化抛光方法，自由曲面工件通过夹具固定于抛光液容器底部，圆柱形抛光工具与自由曲面工件不直接接触并且浸没于抛光液中，串并混联抛光平台控制抛光工具相对工件的位姿，使工具和工件表面始终保持一个微小的加工间隙；伺服电机通过连接装置驱动圆柱形抛光工具在工件上方高速旋转，使混有磨粒的抛光液在工具高速旋转的作用下一起旋转，抛光液经过工具与工件之间的楔形间隙时产生挤压而提高了压力，产生动压；磨粒压入工件表面产生表面及亚表面损伤，实现工件表面极高精度的抛光。本发明在不造成表面及亚表面的损伤的前提下，提高抛光效率。
📄 2018102809536
📂 B24B31_116
👤 浙江工业大学
📅 2018-04-02
本发明属于超精密加工领域，具体涉及一种低粘度磨粒流泵的柱塞孔旋转抛光装置，包括抛光头、抛光头安装组件、旋转驱动机构及轴向移动驱动机构，所述抛光头用以对工件内壁进行抛光，所述抛光头安装组件用以安装抛光头，所述抛光头能够在抛光头安装组件上同时进行轴向前后移动和以抛光头轴心为中心线的旋转，所述旋转驱动机构用以带动抛光头进行旋转，所述轴向移动驱动机构用以带动抛光头进行轴向前后移动。本发明将抛光头一端堵死另一端进入磨料，通过磨料在抛光头内部的挤压以及抛光头旋转给磨粒带来的离心力而对工件进行抛光这样抛光效果较好，并且相比传统磨粒流抛光装置抛光更加的彻底均匀。
📄 2022111191736
📂 B24B31_116
👤 浙江工业大学
📅 2022-09-15
本发明公开一种空化和芬顿反应辅助的低压均匀化抛光方法和装置，该方法先利用芬顿反应对待加工工件进行预处理，在其表面生成二氧化硅腐蚀层，降低其表面的硬度，再利用空化效应，在磨粒流中产生空化泡，增大磨粒的运动随机性，使碳化硅表面附近的磨粒动能更大，以提高加工效率。用经空化作用的磨粒流抛光芬顿预处理的碳化硅工件，并采用与工件表面所夹角度可调的约束模块，使磨粒流在流动方向上对加工表面的剪应力均匀，达到均匀抛光的目的。采用本发明的抛光方法和装置抛光的工件表面均匀、加工效率高、表面粗糙度低、表面质量高。
📄 2019104970264
📂 B24B31_116
👤 浙江工业大学
📅 2019-06-03
本发明属于超精密加工领域，具体涉及一种脉动磨粒流大深径比小孔的抛光装置，包括运动部分、驱动部分、工件部分；运动部分包括驱动块和往复移动驱动机构，所述往复移动驱动机构用以驱使驱动块沿前后方向往复运动；驱动部分包括推杆和弹射机构，所述弹射机构用以将推杆朝前弹射出去；工件部分包括夹具组件和料缸，所述夹具组件用以装夹工件，所述料缸用以储放磨料并与推杆滑动配合，其位于夹具组件和推杆之间，与夹具组件和推杆的位置相对应。本发明设置了运动部分、驱动部分、工件部分等结构，能够实现高速间断性的磨料供给，给磨料一个高速的能量，增强流体的湍动能，从而提高抛光的效果。
📄 2023110801077
📂 B24B31_116
👤 浙江工业大学
📅 2023-08-25
本发明公开了轮式剪切流变抛光装置及抛光方法；所述抛光装置包括机架，设于机架上的移动模块、工件夹持驱动模块和抛光模块；所述移动模块用于控制工件在X、Y、Z三个方向上的运动；所述工件夹持驱动模块用于夹持待加工的工件，并驱动工件旋转；所述抛光模块包括抛光槽和下部位于抛光槽内的抛光轮，所述抛光轮的外周面上沿周向间隔开设有一组凹槽。在抛光时，可以利用抛光轮的旋转将抛光液带起，与上方的待加工工件接触，同时利用工件与抛光液的相对运动，对工件进行剪切增稠抛光，而且还可以通过移动模块和工件夹持驱动模块，对工件的抛光位置进行调控，从而实现对工件不同位置的抛光，达到了确定性抛光的目的，抛光精度高、表面质量好。
📄 2024115260791
📂 B24B31_116
👤 浙江工业大学
📅 2024-10-30
本发明属于超精密加工领域，具体涉及一种连续式圆柱滚子力流变抛光装置及方法，包括圆柱滚子进料模块、载物环模块、抛光槽模块及圆柱滚子下料模块，载物环模块包括载物环、摩擦轮、载物环旋转电机和摩擦轮旋转电机，载物环由载物环旋转电机驱动旋转，其外壁均匀环布若干用以装载圆柱滚子的装载槽，摩擦轮设置于载物环内，其由摩擦轮旋转电机驱动旋转，能够通过摩擦带动载物环中的圆柱滚子自转，抛光槽模块包括储有抛光液的抛光槽、设置于抛光槽中的抛光传送带及用以带动抛光传送带运转的传送带电机。本发明具有自动化程度高、效率快、效果好、绿色环保等特点。
📄 2022116548970
📂 B24B31_116
👤 浙江工业大学
📅 2022-12-22
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