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本发明公开了一种抑制光刻胶图形结构坍塌与黏连的方法，通过化学反应引入金属‑氧化学键消除光刻胶图形表面去离子水表面张力影响，增强光刻胶图形机械强度从而抑制图形坍塌与黏连。本发明引入的金属‑氧化学键可以消除水分子表面张力的影响，有效增强光刻胶图形的机械强度，抑制图形的坍塌与黏连；生长工艺简单，成本低，效率高；生长温度低，不会对光刻胶图形造成新的破坏；去胶时容易清除图形表面附着的金属‑氧化学键，不会引入新污染。

本发明公开了一种高深度比光刻胶图形处理方法，基于等离子体辅助原子层淀积，抑制高深宽比光刻胶图形坍塌和黏连，将显影后的光刻胶图形样品放入原子层淀积设备反应腔，把等离子体辅助离化后的金属或类金属化合物前驱体通入反应腔，在设定反应温度条件下与光刻胶图形大分子表面附着的水分子反应生成金属/类金属-氧化学键，最后吹扫去除多余反应物和副产物，增强光刻胶图形的机械强度，抑制图形的坍塌和变形。本发明极大增强光刻胶图形的机械强度，抑制图形的坍塌与黏连；生长工艺简单，用时很短，效率高；生长温度低，不会对光刻胶图形造成新的破坏；去胶时容易清除图形表面附着的金属/类金属-氧化学键，不会引入新污染。

本发明涉及晒板设备技术领域，具体为一种快干揭片晒板设备，包括晒板机座、晒板遮光自动上下料装置、自动揭片浸泡装置和快干冲洗装置。本发明通过晒板遮光自动上下料装置对一次曝光后的感光版进行顶上下料，下料至自动揭片浸泡装置上后利用下料的余力控制感光版转动垂直，下料至自动揭片浸泡装置控制感光版下移，下移时揭片实现胶片的自动揭除，在对浸泡后的感光版上移，并通过快干冲洗装置冲洗与烘干，实现自动化揭片与快干等工作处理后，在一次曝光后实现自动化的感光版揭片、烘干等工作，极大程度上解放了晒板期间的劳动力，能够在不增加人工成本的情况下进行多个感光版曝光工作，提高了整体晒板的工作效果。