发明专利已授权

一种大口径光学元件的等离子体刻蚀方法

Name: 一种大口径光学元件的等离子体刻蚀方法
SKU: 2019108079014
Availability: InStock

📄 申请号：CN201910807901.4 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2019-08-29

公开号

CN112447473B

公开日

2022-08-02

申请人

西安工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

H01J37_32

IPC 分类号

H01J37_32

技术画像

所属领域

等离子体刻蚀等离子体刻蚀光学元件加工微纳加工

应用场景

光通信, 激光系统, 精密光学仪器, 半导体设备

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摘要

本发明公开一种大口径光学元件的等离子体刻蚀方法，该方法借鉴了射频磁控溅射镀膜技术中的射频反常辉光放电方式，可形成高密度大面积的等离子体，利用该装置耦合正交磁场的定向移动，可驱动等离子体产生定向的运动，实现光学元件表面由线及面的加工。引入活性气体被电离激发，利用真空系统固有的气体分配器所产生的流导场，引导自由基作用于工件表面，亦会带来材料刻蚀效率的提高。而通过射频电场的参数（如功率等），磁场的参数（如各磁极大小的变化，包括平衡和非平衡模式以及磁极定向移动的速度等），以及气体相关参数（包括气体的种类，流量和压力等），可对等离子体的种类，密度和分布进行精确的调控，实现了光学元件表面的高效率大面积等离子体抛光。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

肿瘤细胞标志物miRNA-21及肿瘤细胞的检测系统

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：29 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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