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本发明公开了一种蚀刻光学器件的等离子体蚀刻装置，它包括由上往下顺次设置的外壳、工作台和机箱，空心轴延伸端的顶部焊接有吸盘，电机的输出轴与空心轴之间设置有可驱动空心轴旋转的传动装置，水平管的顶部焊接有电极柱，电极柱的上端焊接有电极片，电极片与吸盘顶部的内壁接触，电极柱的下端伸入于水平管内，且延伸端上固设有导线B，导线B的延伸端处连接有第二高频电源；盖板上设置有伸入于密闭腔内的天线，天线的顶部连接有导线A，导线A的另一端连接有第一高频电源；外壳上设置有电磁阀和卸压阀，电磁阀的另一端连接有储存有气源的气瓶。本发明的有益效果是：提高蚀刻效率、提高光学器件冷却效率、自动化程度高。

本发明公开了一种提高粉体材料表面亲水性的等离子体改性装置及处理方法，具有真空容器，所述的真空容器内设有作为放电空间的玻璃内筒，玻璃内筒两侧分设有向玻璃内筒内放电的左电极和右电极，真空容器底部连接有向玻璃内筒内加入待处理粉体材料的储料筒，玻璃内筒底部设有收集处理后粉体材料的收集器，真空容器管路连接有去除玻璃内筒内水分和空气的真空抽气系统、维持玻璃内筒内部真空度的通气控制系统。本发明通过左电极和右电极产生的辉光放电效应，对玻璃内筒的粉体材料进行等离子体改性，以提高粉体材料表面的亲水性，装置结构简单合理，处理工艺稳定性好，可有效地提高处理后粉体材料的分散均匀性。