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本发明公开了一种蚀刻光学器件的等离子体蚀刻装置,它包括由上往下顺次设置的外壳、工作台和机箱,空心轴延伸端的顶部焊接有吸盘,电机的输出轴与空心轴之间设置有可驱动空心轴旋转的传动装置,水平管的顶部焊接有电极柱,电极柱的上端焊接有电极片,电极片与吸盘顶部的内壁接触,电极柱的下端伸入于水平管内,且延伸端上固设有导线B,导线B的延伸端处连接有第二高频电源;盖板上设置有伸入于密闭腔内的天线,天线的顶部连接有导线A,导线A的另一端连接有第一高频电源;外壳上设置有电磁阀和卸压阀,电磁阀的另一端连接有储存有气源的气瓶。本发明的有益效果是:提高蚀刻效率、提高光学器件冷却效率、自动化程度高。
📄 201911194175X 📂 H01J37_02 👤 河北工程大学 📅 2019-11-28
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发明 已授权

一种蚀刻光学器件的等离子体蚀刻装置

201911194175X · 河北工程大学
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🔋 高能量密度固态电解质材料与制备工艺
预算:¥50-100万截止:2026-08-30发布方:××新能源科技响应:8人

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成功交易案例

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固态锂电池电解质专利包

转让方:中国科学院××研究所
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交易类型:独占许可
交易金额:¥320万
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CRISPR基因编辑技术

转让方:××大学
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交易类型:转让
交易金额:¥1,200万
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SiC功率器件工艺专利

转让方:××半导体有限公司
受让方:××汽车电子集团
交易类型:转让
交易金额:¥680万
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钙钛矿光伏组件技术

转让方:××科技公司
受让方:××能源集团
交易类型:开放许可
交易金额:¥50万/年