发明专利 已授权

基于氧化膜状态主动控制的轴承滚子ELID研磨装置

📄 申请号:CN202010729373.8 📄 发布日:2026/06/29

著录项目信息

申请日
2020-07-27
公开号
CN111958478B
公开日
2024-06-18
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

轴承制造, 精密机械加工, 汽车零部件加工, 工业自动化

摘要

一种基于氧化膜状态主动控制的轴承滚子ELID研磨装置,包括研磨盘模块、电源模块、反馈控制模块、电解液模块和轴承滚子,所述研磨盘模块中,上研磨盘可实现上下运动,对轴承滚子进行加压,吸附轴承滚子使其转动力矩大于摩擦阻力矩,从而实现轴承滚子接触恒定,摩擦恒定,使轴承滚子的连续稳定自转,实现研磨主运动,螺旋沟槽位于上研磨盘下表面,与轴承滚子接触,下研磨盘位于上研磨盘下方,与上研磨盘同轴线,直线沟槽位于下研磨盘上表面,直线沟槽表面为金属结合剂固着磨料磨具,沿直线沟槽的直线进给运动以及沿螺旋槽的螺旋运动用于维持研磨盘工作面的面形,轴承滚子出口位于下研磨盘中心。本发明高表面质量、高批一致性、高形位精度。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20240618
✅ 授权
20201208
?? 实质审查的生效 :
20201120
📄 公开

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